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PCB电镀沉铜药水控制工艺


平板现行工艺参数及其控制范围、 平板现行工艺参数及其控制范围、监测频次 工艺参数及其控制范围 缸名/ 缸名/容积 酸性除油 7号 浸硫酸 450L 控制项目 温度 H2SO4 FR H2SO4 H2SO4 硫酸铜? 硫酸铜?5 水 Cl
-

控制范围 25—30℃ 25—30℃ 10— 10—50 ml /L 10— 10—50ml/L 60—10

0ml/L 60— 100— 100—120ml/L 60— 60—80g/L 40-70ppm 40-70ppm —— 20—28℃ 20—28℃ 250— 250—280g/L

调整值 28℃ 28℃ 30 ml/L 30 ml/L 80 ml/L 110 ml/L 70 g/L 55 ppm —— 24℃ 24℃ 260 g/L

分析频率 1 次/8h 3 次 /周 3 次 /周 1 次 /周 3 次 /周 2 次 /周 2 次 /周 3 次 /周 1 次 /班 2 次 /周

镀铜缸 13— 13—18

赫氏槽片 温度

退镀缸 5— 6 缸

HNO3

平板现行开缸及补充、换缸要求 平板现行开缸及补充、换缸要求 开缸及补充 缸号 缸名及 容积 配缸步骤(按顺序) 配缸步骤(按顺序) 补充、换缸要求 补充、换缸要求 操作条件与要 求 温 度 颜 色 温 度 颜 色 温 度 加入 1/2 体积 DI 水,小心加入 50% H2SO4 3720 L , 加 入 kg, 镀铜缸 CuSO4·5H2O 910 kg,加 DI 水 至合适液位。 13 、 (共有 6 个 至合适液位。 冷却后分析调整 Cl 含量, 14 、 大铜缸,两 含量 , 调整氯离子含量达到 50 大铜缸, 70ppm; 酸铜添加 15 、 个集液槽总 —70ppm;加入 40 L 酸铜添加 循环充分后做赫氏槽片 赫氏槽片, 16 、 体积 剂,循环充分后做赫氏槽片,根 17、 13000L) 17、 18 13000L) 据试验效果添加酸铜补充剂和 酸铜添加 进度调整, 添加剂 (按 酸铜添加剂进度调整, 按 5:1 ( 比例) 化学室分析并试产。 比例) 化学室分析并试产。 , 化学成分由化学室 分析调整。酸铜补 分析调整。酸铜补 酸铜添加 添加剂 充剂,酸铜添加剂 均采用自动添加, 均采用自动添加, 100AH 一般为每 100AH 添 10ml ml, 加 8- 10ml,特殊 情况下由工艺确 定。 过 滤 打 气 液 位 28± 28±2℃ 开缸无 色,之后 淡蓝色 室温 开缸无 色,之后 淡蓝色 2020-28℃ 10μm 滤 芯,每月 更换 打气充分 低于阳极 袋口 2-2.5cm

7

酸性除油 450L 450L

加入 1/2 体积 DI 水,加入硫酸 50%) (50%)35 L,再加入除油剂 FR 水至合适液位。 15L,加 DI 水至合适液位。

化学室分析补加 2 8000±500 m 更换

10

浸硫酸缸 450L 450L

加入 1/2 体积 DI 水,加入 50% 硫酸 90 L;加入 DI 水至合适 液位

1.5L/100 m .5L/ 5000±500 2 5000±500 m 更换

2

颜 色

深蓝色

42

退镀缸 退镀缸 300L

有退镀母液先加入退镀母液, 有退镀母液先加入退镀母液 , , 然后加入 HNO3(浓),按加硝酸量 ),按加硝酸量 补水,保证循环正常; 的 1\3 补水,保证循环正常;化学 室分析并调整硝酸至合适浓度。 室分析并调整硝酸至合适浓度。 120L,加水 新配退镀缸需加硝酸 120L,加水 40L

温 度 10—20L/1000 2 10—20L/1000 m 00
2

室温

颜 色

深蓝色

平板药缸工艺操作规范 平板药缸工艺操作规范 药缸 名称 酸性除油 浸硫酸缸 镀铜 退镀 槽积 ( L) 450 450 13000L 300L 温度 范围 25-30℃ 25-30℃ 室温 22-25℃ 室温 24℃ 调整值 28℃ 28℃ 测量 频次 1 次 /天 1 次 /天 1 次 /班 1 次 /周 循环过滤 有 无 有 有 打气 无 无 适当 无 工艺通知 槽寿命
2 8000 m 2

图电工艺参数及其控制范围、 图电工艺参数及其控制范围、监测频次 工艺参数及其控制范围 缸名/容积 缸名/ 控制项目 温度 酸性除油 900L 900L H2SO4 FR 温度 微蚀 480L 浸硫酸 480L NPS H2SO4 H2SO4 H2SO4 CuSO4?5H2O CuSO 镀铜缸 22400L
Cl -

控制范围 25-30℃ 25-30℃ 5-8% 5-8% 25-30℃ 25-30℃ 2020-60 g 4040-60ml/L 6060-100 ml/L 100100-120 ml /L 60-80 g /L 604040-70ppm —— 20-28℃ 20-28℃ 2525-45 g/L

调整值 28℃ 28℃ 6% 6% 28℃ 28℃ 40 g/L 50 ml/L 80 ml /L 110 ml /L 70 g/L 55ppm —— 23℃ 23℃ 35 g/L

分析 方法 员工实测 化学分析 化学分析 员工实测 化学分析 化学分析 化学分析 化学分析 化学分析 化学分析 化学室 员工实测 化学分析

分析频率 1 次/8h 1 次 /天 1 次 /天 1 次/8h 1 次 /天 1 次 /天 2 次 /周 2 次 /周 2 次 /周 2 次 /周 2 次 /周 1 次/8h 2 次 /周

赫氏槽片 温度 预浸氟硼酸 480L 氟硼酸

氟硼酸 镀锡铅 4200L 氟硼酸铅 氟硼酸亚锡 温度 退镀缸 HNO3

100100-160 g/L 8—12 g/L 12— 12—20 g/L 20-28℃ 20-28℃ 200200-280 g/L

130 g/L 10 g/L 16 g/L 26℃ 26℃ 250 g/L

化学分析 化学分析 化学分析 员工实测 化学分析

2 次 /周 2 次 /周 2 次 /周 1 次/8h 1 次 /周

图电开缸及补充、换缸要求 图电开缸及补充、换缸要求 开缸及补充 缸号 缸名及 容积 配缸步骤(按顺序) 配缸步骤(按顺序) 补充、换缸要求 补充、换缸要求 操作条件与要求 温度 颜色 30±5℃ 开缸无色, 开缸无色, 之后淡蓝 色

酸性除 加入 1/2 体积 DI 水,加入硫酸 化学室分析补加 50%) 14/15 油 (50%)140 L,再加入除油剂 2 8000±500 m 更换 水至合适液位。 900L FR 54 L,加 DI 水至合适液位。 900L 左右, 留母液 50L 左右, 加入 1/2 体积 50%硫酸 60L DI 水,加入 50%硫酸 60L;再加 NPS,最后加入 入 20 kg NPS,最后加入 DI 水 至合适液位

18

微蚀 480L

每周更换

温度

28± 28±3℃

22

浸硫酸 加入 1/2 体积 DI 水,加入 50% 缸 硫酸 100 L ,加入 DI 水至合适 480L 液位 480L

温度 6.5L/ 6.5L/500 m 8000±500 m2 更换 8000±500
2

室温 开缸无色, 开缸无色, 之后淡蓝 色 20-25℃ 10μm 滤 芯, 每月更 换 打气充分 低于阳极 袋口 2-2.5cm 深蓝色

颜色 温度

加入 1/2 体积 DI 水,小心加入 50% H2SO4 6400 L , 加 入 CuSO4·5H2O 1560 kg,加 DI 水 至合适液位。 镀铜缸 至合适液位 。 冷却后分析调整 24含量, 酸铜添加 添加剂 24-39 Cl 含量, 加入 67 L 酸铜添加剂, 22400) 循环充分后做赫氏槽片 根据试 赫氏槽片, (22400) 循环充分后做赫氏槽片, 验效果添加酸铜补充剂和酸铜 验效果添加酸铜补充剂和 酸铜 添加剂进度调整, (按 添加剂进度调整, 按 5:1 比 ( 例) 化学室分析并试产。 ,化学室分析并试产。 加入氟硼 加入 1/2 体积 DI 水,加入氟硼 预浸氟 36L 搅拌均匀; 酸 36L 搅拌均匀;再加入 DI 硼酸缸 水至合适液位

化学成分由化学室 分析调整。酸铜补 分析调整。酸铜补 酸铜添加 添加剂 充剂,酸铜添加剂 均采用自动添加, 均采用自动添加, 一 般 为 每 1000Ah ml, 添加 8-10 ml,特 殊情况下由工艺确 定。
2 1L、 每 200m 补充 1L、 特殊情况由工艺人 员酌定 2

过滤 打气 液位

颜色

13

加入 1/2 体积 DI 水、 加入氟硼酸

980 L、 氟硼酸锡 182 L、氟硼
10— 10— 12 酸铅 63 L、加入硼酸 84 kg (用 定期补充硼酸(遇特殊 定期补充硼酸( 镀锡铅 60℃ 水预先溶解) 60℃DI 水预先溶解) 缸 情况由有关工艺人员 加锡添加剂 B 126 L、 锡添 酌定)) 酌定)) 加剂 A 84 L 加入 DI 水至合适液 分钟, 位,拖缸处理 30 分钟,电流密 度 1.5A/dm2 。 有退镀母液先加入退镀母液, 有退镀母液先加入退镀母液,然 ),按加硝酸量的 后加入 HNO3(浓),按加硝酸量的 补水,保证循环正常; 1\3 补水,保证循环正常;化学室 退镀缸 分析并调整硝酸至合适浓度。 退镀缸 分析并调整硝酸至合适浓度。 400L 新配退镀缸需加水 60L,加硝酸 60L,加硝酸 180L,开启循环 开启循环, 180L, 开启循环 , 调整循环缸液 保证循环正常, 位 , 保证循环正常 , 化学室分析 硝酸浓度并调整铜离子浓度. 硝酸浓度并调整铜离子浓度.

5— 7

2 20L/1000m

2

温度

室温

图电药缸工艺操作规范 图电药缸工艺操作规范 药缸名称 酸性 除油 微蚀 浸硫酸缸 浸硫酸缸 镀铜 浸氟硼酸缸 镀锡铅缸 退镀 槽积( 槽积(L) 900 480 480 22400 480 4200 400 循环过滤 有 有 无 有 无 有 有 打气 无 有 无 有 无 无 无 槽寿命
2 8000 m 2

每周更换或铜含量超过 35g/l 换缸
2 8000 m 2

工艺要求 10000 2 10000 m
2

工艺要求 工艺要求

沉铜线各药水缸工艺控制要求: 罗门哈斯药水体系) 4.2.3 沉铜线各药水缸工艺控制要求:(罗门哈斯药水体系) 序 号 1 药缸名称 溶胀 340L 参考 控制项目 时间 min) (min) 6-9 澎松剂 MLB211 NaOH 温度 规格范围 10%-13%10%-13%-16% 30g/L-40g/L 30g/L-40g/L 70-80℃ 70-80℃ 调整值 13% 35g/L 75℃ 75℃

2

凹蚀 430L

9-12

KMnO4 K2MnO4 NaOH 温度 再生电流 H2O2 (30%) 30%) H2SO4(50%) 温度 中和剂 3316 H2SO4 30%) H2O2(30%) 温度 除油剂 3325 温度 H2SO4 NPS 2+ Cu 微蚀速率 温度 预浸剂 404 2+ Cu 温度 预浸盐 404 活化剂 44 SnCl2 2+ Cu 温度 铜 NaOH 甲醛 EDTA 比重 沉铜厚度 温度

4040-60g/L <25g/L 4040-50g/L 70-80℃ 70-80℃ 100100-150A 5-15mL/L 1010-20mL/L 室温 4040-50ml/L 1010-30mL/L 10ml10ml-20ml/L 20-25℃ 20-25℃ 8%-10%8%-10%-12% 60-70℃ 60-70℃ 1515-25mL/L 3030-70g/L 2+ Cu <25g/L 0.5— 0.5—1.5?m 25-30℃ 25-30℃ S.G..>1.12 S.G..>1.12 2+ Cu <1.5g/L 28-32℃ 28-32℃ S.G..>1.134 强度:55Pd 强度:55-75% 3-12g/L <2g/L 42-45℃ 42-45℃ 1.71.7-2.3g/L 9.59.5-11.5g/L 3-5g/L 2525-35g/L S.G<1.12 0.250.25-0.625?m 30-36℃ 30-36℃ 补充份量(每一百平米补充量) 补充份量(每一百平米补充量) 1L 300g/L 的溶液 1 L 1 Kg 300g/L 的溶液 2 L 4 L 1.5 L

50g/L 45g/L 75℃ 75℃ 10mL/L 15mL/L 45ml/L 20ml/L 15ml/L 22℃ 22℃ 10% 67℃ 67℃ 20mL/L 50g/L

3

预中和 340L

0.50.5-1.0

4

中和 340L 除油 340L

2-3

5

5-7

6

微蚀 370L

1-2

28℃ 28℃ 250g/L 30℃ 30℃ 240g/L 65% 4g/L 43℃ 43℃ 2.0g/L 10.5g/L 4g/L 30g/L S.G<1.12 0.4?m 32℃ 32℃

7

预浸 320L

0.50.5-1.0

8

活化 320L

5-7

10

沉铜 770L

1515-18

4.2.4 沉铜生产线药水补充用量 缸号 溶胀缸 凹蚀缸 化学药品 澎松剂 MLB211 NaOH KMnO4 NaOH 50%) H2SO4(50%) 30%) H2O2 (30%) 中和剂 3316

中和缸

除油缸 微蚀缸 预浸缸 活化缸

除油剂 3325 50%) H2SO4(50%) NPS 预浸盐 404 预浸盐 404 活化剂 44 NaOH 甲醛

1.5 L 5 L 5 Kg 2.5 Kg 50g/L(20%)的水溶液, 配成 50g/L(20%)的水溶液,补充液位 400 mL 300g/L 的溶液 10 L 7 L 5 L 3.5 L 范围 8.5~ 8.5~11.5 g/L 3.0~ 3.0~5.0 g/L 分析频率 1 次/4H 1 次/4H 1 次/4H 1 次/4H 2 次 /班 1 次 /天 1 次 /班 1 次 /班 1 次 /班 1 次 /班 1 次 /班 1 次 /班 1 次 /天 1 次 /天 1 次 /天 1 次 /天 1 次 /天 1 次 /天 1 次 /天

沉铜缸 沉铜液 880A 沉铜液 880E 4.2.5 沉铜线各缸药水分析频次 缸名 控制项目 NaOH 甲醛 沉铜缸
2+ 880A(Cu ) 2+

1.7~ 1.7~2.3 g/L 25~ 25~35 g/L 30~36℃ 30~36℃ 55~ 55~75 % 1.135~1.167 1.135~ <2 g/L >1.12 <1.5 g/L 1515-25mL/L 3030-70mg/L <25 g/L 0.5— 0.5—1.5?m 8%-10%8%-10%-12% 4040-50ml/L 1010-30mL/L 10ml10ml-20ml/L 10%10%-16%

880E(EDTA) 880E(EDTA) 温度 Pd 的强度 活化 比重
2+ Cu 2+

比重 预浸
2+ Cu 2+

H2SO4 NPS 微蚀
2+ Cu 2+

微蚀速率 除油 除油剂 3325 中和剂 3316 中和 H2SO4 30%) H2O2 (30%) 溶胀 澎松剂 MLB211

NaOH KMnO4 K2MnO4 凹蚀 NaOH 再生电流 4.2.6 开缸规范 4.2.6.1 部分药水每升含离子克浓度 药水名称 催化剂 44 沉铜液 880A 沉铜液 880E 甲醛 4.2.6.2 开缸方法 药 缸 名 称 开缸步骤

30g/L30g/L-40g/L 4040-60g/L <25g/L 4040-50g/L 100100-150A

1 次 /天 1 次 /天 1 次 /天 1 次 /天 2 次 /班

离子名称 1%的 每 1%的 CAT44 含 Pd
2+ Cu EDTA 2+

含量 47ppm 200 g/L 600 g/L 333 g/L

HCHO

缸号

换缸标准

溶 胀

22#

1) 2) 3) 4) 5)

放入 2/3 缸 DI 水,开启打气; 开启打气; 12kgNaOH,搅拌均匀,等待其完全溶解; 加入 12kgNaOH,搅拌均匀,等待其完全溶解; MLB211,搅拌均匀; 加入 44.2L 膨松剂 MLB211,搅拌均匀; 水至溢流位; 加 DI 水至溢流位; 开启过滤循环, 75℃ 开启过滤循环,开启加热器升温至 75℃。

1500 ㎡或 2 个月

凹 蚀

32#

1) 放入 2/3 缸 DI 水; 高锰酸钾(KMnO 搅拌均匀; 2) 加入 22kg 高锰酸钾(KMnO4),搅拌均匀; 氢氧化钠,搅拌均匀; 3) 加入 20kg 氢氧化钠,搅拌均匀; 4) 加 DI 水至 400 升; 待搅拌均匀后, 75℃ 5) 待搅拌均匀后,开启加热至 75℃; 120~150A。 6) 同时开动再生器把再生电流调整至 120~150A。 注意:每次配槽前, 2%硫酸 v/v) 硫酸( 注意:每次配槽前,用 2%硫酸(v/v)及 2% H2O2 (V/V) 清洗槽壁及再生器上的二氧化锰等沉积物,再用清水清 清洗槽壁及再生器上的二氧化锰等沉积物, 洗干净。 洗干净。 1) 2) 3) 4) 放入 3/4 缸 DI 水; 硫酸(50%) 搅拌均匀; (50%), 缓慢加入 15L 硫酸(50%),搅拌均匀; 双氧水(30%) 搅拌均匀; (30%), 加入 3.5L 双氧水(30%),搅拌均匀; 水至溢流位 加 DI 水至溢流位;

5000 ㎡或 个月换缸, 每 6 个月换缸,但 每个月需要倒缸 一次。 一次。

预 中 和

29#

1周

中 和

27#

1) 放入 3/4 缸 DI 水, 50%) 搅拌均匀; ,搅拌均匀 2) 加入 17.5LH2SO4(50%) 搅拌均匀; , 双氧水(30%) 搅拌均匀; ,搅拌均匀 加入 5L 双氧水(30%) 搅拌均匀;加入 15.5L 中和剂 , 3316,搅拌均匀。 3316,搅拌均匀。 水至溢流位;开启过滤泵。 3) 加 DI 水至溢流位;开启过滤泵。 1) 2) 3) 4) 1) 2) 3) 4) 5) 放入半缸 DI 水, CC3325,搅拌均匀; 加入 34L 除油剂 CC3325,搅拌均匀; 加 DI 水至溢流位 开启循环过滤及加热至工作温度。(67℃ 开启循环过滤及加热至工作温度。(67℃) 放入半缸 DI 水; 50%的硫酸 L; 加入 50%的硫酸 20 L; 加入 NPS 18.5 Kg, 水至溢流位。 加 D I 水至溢流位。 开启过滤 打气及加热至工作温度。(28℃ 开启过滤、打气及加热至工作温度。(28℃)

1000m 或 Cu>20g

2

除 油 调 整

21#

5000 ㎡

微 蚀

17#

每 周 2 次 或 2+ Cu >25g/L

酸 洗 预 浸

14

1) 放入半缸 DI 水, 硫酸搅拌均匀。 2) 加入 12.5L 硫酸搅拌均匀。 3) 加 DI 水至溢流位 1) 2) 3) 放入 3/4 缸 DI 水; CP404,搅拌至完全溶解。 加入 80kg 预浸剂 CP404,搅拌至完全溶解。 , 注入 DI 水至工作液位,开动过滤泵。 水至工作液位,开动过滤泵。

1周

12#

1 到 2 年 或 2+ Cu >1.5g/L

活 化

11#

1) 放入 3/4 缸 DI 水; CP404,搅拌, 42-44℃ 2) 加入 85kg 预浸剂 CP404,搅拌,并加热至 42-44℃, 1 到 2 直至所有预浸剂溶解; 直至所有预浸剂溶解; 2+ Cu >2g/L 开启过滤,并补充液位; 3) 开启过滤,并补充液位; CAT44,并搅拌均匀。 4) 加入 6.8L CAT44,并搅拌均匀。 1) 2) 3) 4) 5) 6) 7) 8) 开启打气; 放入 2/3 缸 DI 水,开启打气; 38LC/P880E,开启打气, 分钟; 加入 38LC/P880E,开启打气,等待 2-5 分钟; C/P880A, 分钟; 加入 7.7L C/P880A,打气 5 分钟; C/P880C, 分钟; 加入 19L C/P880C,打气 5 分钟; 加入 25.7L NaOH(300g/L) ; 搅拌均匀; 加入 9.5L HCHO 搅拌均匀; 加入 DI 水至工作水位 循环过滤、搅拌均匀加热至温度控制范围。 循环过滤、搅拌均匀加热至温度控制范围。

年 或

化 学 沉 铜

3-4# 或 5-6#

每周倒槽

说明: 说明: 除微蚀、预浸、浸酸外,其他各缸开缸后化学分析并根据分析结果进行调整, 1) 除微蚀、预浸、浸酸外,其他各缸开缸后化学分析并根据分析结果进行调整, 浓度≥ 时不作额外补充 外补充。 但凹蚀缸 KMnO4 减 K2MNO4 浓度≥40g/l 时不作额外补充。 4. 2.7 药水颜色及循环过滤要求 缸名 膨胀缸 凹蚀缸 中和 除油 过滤/ 过滤/循环要求 10μ棉芯, 10μ棉芯,每周更换 强烈搅拌 10μ棉芯, 10μ棉芯,每周更换 10μ棉芯,每周更换 10μ棉芯, 药水颜色及特征 浅黄色, 浅黄色,生产时不能有分层或混浊现象 深紫红色 开缸时无色,然后渐变为篮色, 开缸时无色,然后渐变为篮色,使用较久时 呈绿色 开缸时无色,然后渐变蓝色 开缸时无色,

微蚀缸 活化缸 沉铜缸

—— 5μ棉芯,每周更换 棉芯, 滤芯每周更换,循环: 10u 滤芯每周更换,循环:要 个循环/ 求 4-6 个循环/小时

开缸时无色, 开缸时无色,然后渐变为蓝色 黑色,不能有混浊现象。 黑色,不能有混浊现象。Pd 浓度偏低时颜色 会偏浅 天蓝色,反应时表面有一层小气泡, 天蓝色,反应时表面有一层小气泡,若反应 面有一层小气泡 过于激烈为异常 凹蚀后一级水洗为紫色; 凹蚀后一级水洗为紫色;除油后一级水洗为 浅蓝色, 微蚀后一级水洗也为浅蓝色并清澈, 浅蓝色, 微蚀后一级水洗也为浅蓝色并清澈, 二级水洗应无色;活化后一级水洗乳白色, 二级水洗应无色 ; 活化后一级水洗乳白色 , 其他每个水洗缸都应无色。 其他每个水洗缸都应无色。

各水洗缸

——

4.2.8 沉铜自动添加药水准备及自动添加频次设置 1)自动添加药水备料 满量生产) 自动添加药水备料( 1)自动添加药水备料(满量生产) 沉铜液 880A 每天需备料 1—2 桶 沉铜液 880E 每天需备料 10L 甲醛每天需备料 15L 100L,每桶 50L) 每桶( 氢氧化钠每天需配制含 300g/L 的溶液 100L,每桶(50L)配制时先加半桶 DI 水,加入 NaOH 搅拌均匀, 再搅拌均匀, 冷却后使用。 15 ㎏搅拌均匀,补充 DI 水,再搅拌均匀,待冷却后使用。 自动添加桶液位低于 1/4 时必须及时补充药剂 4.2.1 各个药水控制范围 缸名 控制项目 范围 分析方法 分析频率 责任人 退膜缸 氢氧化 钠 pH Cl 比重显示 蚀刻温度 HNO3 含量 比重 退锡温度 4.2.2 生产线开缸方法 缸名 体积 开缸方法 体积, 氢氧化钠分次倒入配料桶, 加清水至缸液位 2\3 体积,将 25 Kg 氢氧化钠分次倒入配料桶, 100— 加水搅拌溶解后倒入缸中。补充清水至合适液位。 加水搅拌溶解后倒入缸中。 补充清水至合适液位 。加入 100 — 消泡剂。开机循环,将药水泵入退膜缸中, 200ml 消泡剂。开机循环,将药水泵入退膜缸中,并开启加热使 47℃以上方可使用。 1500— 块板换缸。 升温至 47℃以上方可使用。做板量 1500—2000 块板换缸。 泵入蚀刻母液 650~750L, 分析各控制成份含量, 并依情况用水、 泵入蚀刻母液 650~750L, 分析各控制成份含量, 并依情况用水、 稀氨水 、 蚀刻液进行调整 , 开机循环并开启加热使升温至 48-52℃方可使用。 48-52℃方可使用。 加入退锡母液 800L—900L 分析硝酸含量,测量比重,并依情况 800L— 分析硝酸含量,测量比重, 加退铅锡剂、硝酸至合适液位开机循环并开启加热使升到 35-40℃ 35-40℃。 退膜温度 浓度% 浓度% 48℃±2 48℃±2 ℃± 3—4% 8.0 8.0-8.8 200g/l 170-200g/l 1.19± 1.19±0.01 52℃ 48-52℃ 160- 20g/l 160-220g/l 1.30 1.30 -1.40 35-38℃ 35-38℃ 直接测量 化学分析 化学分析 化学分析 目测 直接测量 化学分析 比重计测量 直接测量 1 次 /班 1 次 /班 1 次 /班 1 次 /班 2 次 /班 1 次 /班 3 次 /周 1 次 /班 1 次 /班 操作者 化学室 化学室 化学室 操作者 操作者 化学室 操作者 操作者

蚀刻缸

退锡缸

退膜缸

650L

蚀刻缸

800L

退铅锡缸

1000L

自动加药系统控制(说明蚀刻自动添加原理及添加量) 4.2.3 自动加药系统控制(说明蚀刻自动添加原理及添加量) 蚀刻段:比重达到设定值(例如:1.193)时 蚀刻段:比重达到设定值(例如:1.193)时,开始自动添加蚀刻子液

值低于设定值时, PH 值低于设定值时,开始自动添加氨水 值高于设定值时, PH 值高于设定值时,开始自动添加氯化铵 自动添加药水流量 添加频次每周由工艺确认、调整,每周对比重值、 值设定、校准, 水流量、 自动添加药水流量、添加频次每周由工艺确认、调整,每周对比重值、PH 值设定、校准, 由工艺负责。 由工艺负责。 4.2.4 生产控制项目 缸名 项目 退 膜 退膜段 水洗段 蚀 刻 上压 下压 退 锡

压力(psi) 压力(psi)

25— 25—30

20— 20—25

25— 25—30

20— 20—25

25~ 25~30

温度

设定 控制

47℃ 47℃ 47± 47±2℃

48 ≥45,≤52 45, 2.5± 0.5OZ 2.5±0.2 1.0OZ 1.6± 1.6±0.2 1.0± 1.0±0.2 2.0OZ

36 ≥35,≤38 35, 2.2m 2.7m/min —

速度(m/min) 速度(m/min)

2.0m —2.3m/min

烘干段温度 55±5℃ 55± 备注:A.电镀后经补黑油的板件,干膜较难退下,可根据实际情况,适当降低退膜速度。 备注:A.电镀后经补黑油的板件,干膜较难退下,可根据实际情况,适当降低退膜速度。 电镀后经补黑油的板件 孤立线路易夹膜的板件应适当降低退膜速度。 B. 孤立线路易夹膜的板件应适当降低退膜速度。 对于有平板加厚要求的板件,可根据实际情况适当降低蚀刻速度, C. 对于有平板加厚要求的板件,可根据实际情况适当降低蚀刻速度,一般比相应控制范围 0.2-0.4m/min。 降低 0.2-0.4m/min。 5.0 蚀刻液配制 配制比例: 5.1 配制比例:配制 50L 标准碱性蚀刻液配方 药品名称 氨水 氯化铵 硝酸钾 磷酸二氢钠 碳酸氢铵 硫脲 4. 1.3 工艺参数控制 流程 项目 磨刷压力 磨板 磨痕宽度 速度 酸洗 烘干 H2SO4 温度 速度 控制范围 1.91.9-2.2A 9-12mm 1.81.8-2.3m/min 2-3% 60± 60±5℃ 1.71.7-2.3m/min 最佳控制值 2.1A 10.0mm 2.0m/min 2.5% 60℃ 60℃ 2.0m/min 级别 工业级 工业级 工业级 工业级 工业级 工业级 18%(标准) 18%(标准) 配制 25L 12.5 ㎏ 250— 250—300g 250— 250—300g 250— 250—300g 1 g

贴膜

热压辊温度 压力

110±10℃ 110±10℃ 45(3.045-60 psi (3.0-5.0bar) 8-10 级 8585-99% 2020-25 psi 28-32℃ 28-32℃ 0.90.9-1.2% 0.90.9-1.2% 5050-70% 1.41.4-1.6m/min

115℃ 115℃ 55 psi 9级 90% 22psi 30℃ 30℃ 1.1% 1.1% 55% 1.5m/min

曝光

曝光级数 真空度 显影压力 显影温度 显影浓度( 显影浓度(Na2CO3)

显影

补充液浓度( 补充液浓度(Na2CO3) 露铜点 显影速度 m/min

露铜点:指冲板时刚好能把干膜全部洗掉所走过的距离, 此距离占整显影段的百分率 整显影段的百分率, 露铜点:指冲板时刚好能把干膜全部洗掉所走过的距离, 此距离占整显影段的百分率, 例 如走在中间时停止,然后观察板面露铜的部分, 50%。 如走在中间时停止,然后观察板面露铜的部分,若只有一半即为 50%。 重氮片工艺参数控制: 4.1.4 重氮片工艺参数控制: 缸名 曝光级数 控制项目 IMD-XT 重氮片(PhoTec21 IMD- 重氮片( 级) 显影 氨水速度 显影温度 4.1.5 干膜存放 环境 仓库 洁净间 4.1.6 生产参数测量频次 缸名 控制项目 水膜时间 磨板 酸洗浓度 磨痕宽度 曝光 显影 补充液 1.0± 1.0±0.2% 化学分析 1 次 /班 级数 Na2CO3 范 围 >20 秒 2—3% 9-12mm 8-10 级 1.0± 1.0±0.2% 分析方法 时间测量 化学分析 宽度测量 曝光测量 化学分析 分析频率 分析频率 1 次 /周 2 次 /周 1 次 /周 1 次 /班 1 次 /班 温度要求 10-15℃ 10-15℃ 20-24℃ 20-24℃ 湿度要求 5050-70% 5050-70% 最长贮存时间 3 个月 1 个月 ≥30 滴/分钟 45± 45±2℃ 范围 第二级透明,第三级有棕色 第二级透明,

显影压力

2020-25psi

直接读数

1 次 /班


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