当前位置:首页 >> 能源/化工 >>

太阳能硅片清洗技术与工艺


太阳能硅片清洗技术与工艺

RCA 标准清洗法是 1965 年由 Kern 和 Puotinen 等人在 N.J.Princeton 的 RCA 实验室首创的,并由此而得名。RCA 是一种典型的、至今仍为最普遍 使用的湿式化学清洗法,该清洗法主要包括以下几种清洗液。 (1)SPM:H2SO4 /H2O2 120~150℃ SPM 具有很高的氧化能力,可将 金属

氧化后溶于清洗液中,并能把有机物氧化生成 CO 2 和 H2O。用 SPM 清洗硅片可去除硅片表面的重有机沾污和部分金属,但是当有机物沾污特 别严重时会使有机物碳化而难以去除。 (2) HF(DHF): HF(DHF) 20~25℃ DHF 可以去除硅片表面的自然氧化膜, 因此, 附着在自然氧化膜上的金属将被溶解到清洗液中, 同时 DHF 抑制了 氧化膜的形成。 因此可以很容易地去除硅片表面的 Al, Fe, Zn, 等金属, Ni DHF 也可以去除附着在自然氧化膜上的金属氢氧化物。用 DHF 清洗时, 在自然氧化膜被腐蚀掉时,硅片表面的硅几乎不被腐蚀。 (3)APM (SC-1) :NH4OH/H2O2 /H2O 30~80℃ 由于 H2O2 的作用,硅 片表面有一层自然氧化膜(SiO2),呈亲水性,硅片表面和粒子之间可被清 洗液浸透。由于硅片表面的自然氧化层与硅片表面的 Si 被 NH 4OH 腐蚀, 因此附着在硅片表面的颗粒便落入清洗液中,从而达到去除粒子的目的。 在 NH4OH 腐蚀硅片表面的同时,H2O 2 又在氧化硅片表面形成新的氧化 膜。 (4)HPM (SC-2):HCl/H2O2/H2 O 65~85℃ 用于去除硅片表面的钠、 铁、镁等金属沾污。在室温下 HPM 就能除去 Fe 和 Zn。 清洗的一般思路是首先去除硅片表面的有机沾污,因为有机物会遮盖部分 硅片表面,从而使氧化膜和与之相关的沾污难以去除;然后溶解氧化膜,

因为氧化层是“沾污陷阱”,也会引入外延缺陷;最后再去除颗粒、金属等 沾污,同时使硅片表面钝化。


相关文章:
毕业论文《硅片清洗工艺的原理和现状》
本文对硅片清洗的基本理论、常用工艺方法和技术进行了详细的论述,同时 对一些常用...1.2 硅片清洗工艺的主要作用 1.在太阳能材料制备过程中,在硅表面涂有一层...
硅片清洗及最新发展
目前,制 造总损失的一半是因为硅片清洗不当引起的器件失效。因此,人们对太阳能硅片 清洗技术的研究在不断的深入。 本文将对硅片表面污染类型进行简单的介绍,在 此...
硅片清洗技术的发展趋势
2.2 只用 HF 清洗或简化常规工艺后最后用 HF 清洗 在湿式清洗工艺中,硅片...)在半导体、太阳能、FPD 领域湿制程设备的设计、研发、生 产方面有着不错的...
硅片清洗技术
硅片清洗技术_能源/化工_工程科技_专业资料。(转载)半导体硅片的化学清洗技术 转载) 对太阳能级硅片有借鉴作用 一. 硅片的化学清洗工艺原理 硅片经过不同工序加工...
太阳能硅片湿法清洗设备现状分析——华林科纳
太阳能硅片湿法清洗设备现状分析——华林科纳_能源/化工_工程科技_专业资料。太阳...预清洗、烘干、包装等几个工序,苏州华林 科纳半导体依靠自身工艺技术优势开发了...
硅片清洗工艺
光伏太阳能硅片清洗工艺的... 3页 免费如要投诉违规内容,请到百度文库投诉中心...实验室又推出兆声清洗工艺,近几年来以 RCA 清洗理论为基础的各种清洗技术不断...
硅片清洗水处理方案
光伏太阳能硅片清洗工艺... 3页 免费 半导体硅片RCA清洗技术-... 3页 免费硅...太​阳​能​光​伏​纯​水​处​理​太​阳​能​E...
(2)清洗工艺流程
适用范围: 各种规格的单晶硅、多晶硅太阳能电池硅片的制绒清洗 XT-1300SG 太阳能...技术集于一身 ■ 彩色大屏幕人机界面操作,方便参数设置及多工艺方式转换 清洗...
PLC技术在太阳能硅片清洗机控制上的应用
PLC 技术太阳能硅片清洗机控制上的应用 [摘要] 文章介绍了 PLC 的结构和工作原理,概述了太阳能硅片清洗机的结构和工艺流程, 对 PLC 在太阳能硅片清洗机控制上...
硅片脏污问题研究
硅片脏污问题研究太阳能硅片切割完毕后,在对硅片进行清洗后,会出现硅片表面脏污的...一般客户根据清洗工艺直接将清洗剂添加到纯水中,温度通常设定在 45-65℃之间,...
更多相关标签:
太阳能硅片生产工艺 | 太阳能硅片 | 太阳能硅片生产厂家 | 太阳能硅片市场 | 太阳能硅片回收价格 | 太阳能硅片回收 | 太阳能硅片硅锭 | 太阳能硅片切割液 |