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三靶射频磁控溅射镀膜仪和离子溅射仪ETD-2000Ⅲ价格


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三 靶 射 频 磁 控 溅 射 镀 膜 仪 和 离 子 溅 射 仪 ETD登录“润联网” 可查找底价

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2000Ⅲ价格
标题:溅射

仪 ETD-800 和小型高真空离子溅射 库号:JX164033 价格:百度搜【润联网】查 仪价格 询 主要技术参数: 仪器简介:本仪器主要适用于扫描电子显微镜 样品镀膜导电膜 ( 金膜),仪器操作简单方便 , 是 配合中小型扫描电子显微镜制样必备的仪器。 技术参数:1.靶(上部电极):材料:金,直 径 : 50mm , 厚 度 : 0.1mm 纯 度 : 99.999%2 、 真 空 室 : 直 径 : 160mm , 高 : 110mm3.样品台(下部电极):溅射面积:直 径 : 50mm4 . 工 作 真 空 : 2×10-1—10-1 mbar5. 离子电流表:最大电流: 50mA6. 计时 器:根据溅射习惯设定单次溅射时间。7.最高 电压:-1600DVC8.机械泵:2 升/每秒 9.工作室 工作媒介气体:空气或氩气,10.真空气阀: 配有氩气专用进气口和微量充气调节,可连接 φ4*2.5mm 软管。主要特点:轻便、溅射面积 大 靶材可按用户要求加工制作 标题 : 磁控溅射系统 NSC-4000(M) 和超高分辨 库号:JX164034 价格:百度搜【润联网】查 多靶材离子溅射仪 208HR 价格 询 主要技术参数: ETD-2000C 溅射蒸碳仪是依据二极 (DC) 直流 溅射原理设计而成的,最简单、可靠、经济的 镀膜设备。同时增加了热蒸发附件,具有溅射 和蒸发两种功能。 满足电镜实验室的扫描电子 显微镜(SEM)样品制备和非导体材料实验电 极制作。特点:在 ETD-2000/3000 离子溅射 仪基础上,增加了热蒸发附件,可以蒸发碳 丝,具有溅射和蒸发两种功能。因此扩展了应 用范围,特别适用于扫描电镜实验室样品制 备 。 型 号 ETD-2000c 仪 器 尺 寸 400mm×300mm×400mm ( L×W×H ) 靶 ( 上 部电极) 50mm×0.1mm ( D×H )真空样品室 硼硅酸盐玻璃 160mm×110mm ( D×H )样品 台 50mm (D)操作真空 4×10-1mbar 至 2×102mbar 工作电压 0-1600V (DC)可调溅射电流 0-50mA 溅 射 定 时 1-9999S 蒸 碳 电 流 010A(AC)真空泵 2 升机械旋转泵 标题:高真空离子溅射仪和台式磁控溅射系统参 库号:JX164035 价格:百度搜【润联网】查 数 询

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主要技术参数: 高性能离子溅射仪系统是现阶段配套扫描电镜 SEM,透射电镜 TEM 和电子探针最佳的配套 前级样品处理系统以及均匀高质量的电极薄膜 制备 Cressington 108/108Auto 离子溅射仪是 用于电镜样品前处理,制作电极的最先进高质 量的镀膜仪系统主要优势功能:自动的换气与 泄气功能,可以得到一致的膜厚,和最佳的导 电喷镀效果。通过高效低压直流磁控头进行冷 态精细的喷镀过程,避免样品表面受损。操作 容易快捷,可全自动或手动进行喷镀操作,控 制的参数包括自动放气以及氩气换气控制。在 自动模式下,可通过两种方式进行控制镀膜过 程。可通过数字显示器控制得到可重现的喷镀 效果。可配备 MTM-10 高分辨膜厚监控仪(选 件 ) ( 分 辨 率 优 于 0.1nm , -99.9nm 到 +999.9nm) 数字化的喷镀电流控制不受样品室 内氩气压力影响,可得到一致的镀膜速率和最 佳的镀膜效果。可使用多种金属靶材: Au , Au/Pd, , Pt, , Pt/Pd ,靶材更换快速方便。技 术规格:样品仓尺寸: 120 x 120mm (高) (4.75 x 4.75"),高强度不锈钢结构样品台:可 放置 12 个标准 SEM 样品座,高度可在 60mm 内调节溅 标题:台式磁控溅射系统和台式离子溅射仪参数 库号:JX164036 价格:百度搜【润联网】查 询 主要技术参数: 150 T 的机壳是整体成型的,结构坚固耐用, 配有气冷的 70L/S 的涡轮分子泵,自动进气控 制保证了溅射期间最佳的真空水平,真空腔室 直径为 165mm 并带有防爆装置。150T 具有 “ 真空闭锁” 功能,可在设备不工作时维持腔室 的真空度,从而保证高真空的性能。 150T 系 列全自动高真空离子溅射/热蒸发一体化镀膜仪 给用户以类似傻瓜相机的简单操作、顶级的镀 膜质量和对熟手/新手都很理想的用户界面,让 用户真正领略至臻完美的镀膜品质!根据不同 的 应 用 方 向 , 150T 细 分 为 三 个 型 号 : 150TS:高分辨率溅射镀膜仪 High Resolution Turbomolecular Pumped Sputter Coater ,可 溅射易氧化和不易氧化金属,可选各种溅射靶 材,包括场发射电镜常用的铱和鉻。 150TE: 高真空镀碳仪,可制作高稳定的碳膜和表面覆 形膜,是 TEM 应用最理想的选择。150TES: 集合了离子溅射和热蒸镀两种真空沉积镀膜方 式,镀膜 标题:高真空镀膜机 LJ-16T 和溅射仪 ETD-800 库号:JX164037 价格:百度搜【润联网】查 价格 询

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主要技术参数: ETD-2000 型离子溅射仪是依据二极(DC)直流 溅射原理设计而成的,最简单、可靠、经济的 镀膜设备。适用于电镜实验室的扫描电子显微 镜(SEM)样品制备,非导体材料实验电极制 作。特点:1. 配置有样品溅射室真空表和溅射 电流表,用以指示、监控仪器状态;2. 溅射电 流调整控制器、微型真空气阀。在工作时结合 内部自动控制电路很容易控制真空室压强、电 离电流及任意选择所需要的电离气体,获得最 佳镀膜效果;3. 特殊设计的钟罩边缘橡胶密封 圈,可保证长期使用不会出现影响样品溅射室 真空度的玻璃钟罩“崩边”现象;4. 陶瓷密封高 压头比通常采用橡胶密封的更经久耐用;5. 根 据电场中气体电离特性,采用大容量样品溅射 真空室和相应面积溅射靶,使溅射镀层更均匀 纯 净 。 型 号 ETD-2000 主 机 规 格 L360mm*W300mm*H380mm 靶(上部电极) 金:直径:50mm,厚度:0.1mm 真空样品室 直 径 : 160mm , 高 : 120mm 溅 射 面 积 Ф50mm 真空指示表最高真空度: ≤ 4X10-2 &nb 标题 : 磁控溅射系统 NSC-4000(M) 和高真空离 库号:JX164038 价格:百度搜【润联网】查 子溅射仪 EMSQ150 参数 询 主要技术参数: Features 优势说明:源自 1973 年英国先进的 电镜配套镀膜工艺, 60 多年专业技术及全球 5000 名科研工作者的信赖; 独特的受反馈控 制的碳棒蒸发系统可以在膜厚为 20nm 左右进 行多次蒸发,无须切削或调整碳棒形状; 108C 中使用的高纯碳棒可以在高倍下得到高 质量的镀膜效果,以便进行电镜成像和能谱仪 X 射线 EDS 或 EBSD 分析; 使用新型的蒸发 装置:电流和电压通过磁控头传感监控,蒸发 源作为反馈回路一部分被控制,该蒸发装置使 常规碳棒具有优良的镀膜稳定性和重现性; 自 动模式下,蒸发源按程序设定进行镀膜,手动 模式下,独特的设计允许以脉冲或连续方式操 作,并通过旋钮控制输出电压样品仓尺寸 120 mm x 120mm, 高强度不锈钢结构样品台可放 置 12 个标准 SEM 样品座,高度可在 60mm 内调节溅镀材料 Bradley 型高纯度碳棒, 无需 削减或调整溅镀优点基于微处理器反馈控制, 远程电流/电压感应;提供真空安全联锁装置, 最大 180A,配有过流保护 模拟计量真空 Atm - 0.001mb,电流: 0 - 200A 标题:高真空镀膜机 LJ-16T 和台式离子溅射仪 库号:JX164039 价格:百度搜【润联网】查 价格 询

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主要技术参数: 150R 型镀膜仪(真空镀膜仪/喷碳仪/蒸镀仪) 采用最新技术研制而成,彩色触摸液晶屏,快 速的参数输入,数种碳丝匹配,友好的用户界 面,带给你不一般的操作感受!产品参数:仪 器尺寸 585mm(W) x 470mm(D) x 410mm(H) 包装尺寸 725mm W x 660mm D x 680mm H (36.8kg)工作腔室硼硅酸盐玻璃 152mm (内直 径)x 127mm H 安全钟罩聚乙烯对苯二酸,柱 形显示屏彩色液晶 320 x 240 用户界面直观的 图形界面,触摸键。记忆功能:维护提醒及最 后十个镀膜方案日志记录重量 28.4Kg 样品台 直径为 50 mm 的旋转样品台,上有 6 个样品 座,可配 15mm, 10mm, 6.5mm 或者 3.1mm 样 本 座 , 转 速 为 8-20rpm 真 空 泵 Edwards RV3 50L/s 两级真空泵,Pirani 真空计极限真 空度洁净系统可达 2x10-2 mbar,充氮气喷镀 真空范围 3 x 10-2 -5 x 10-1mbar 安培计碳 绳:0-60 Amps,1.4mm ? 碳棒:1-90 Amps 标题 : 真空磁控离子溅射镀膜仪和离子溅射仪 库号:JX164040 价格:百度搜【润联网】查 ETD-900C 型价格 询 主要技术参数: ETD-900C 是一款具有溅射和蒸发两种功能的 镀膜设备,由一台 ETD900 型溅射仪和一个蒸 发电源箱及样品室蒸发上盖组成,由电缆将两 个机箱中的控制部件连接起来,通过面板上的 按键状态,经溅射机箱中的 CPU 判别操作 项,以确定允许与否(具体操作见说明书)。 设备使用简便,性能可靠,蒸发材料为碳绳, 溅射材料为金、铂等。型号 ETD-900c 仪器尺 寸 400mm×300mm×400mm ( L×W×H ) 靶 (上部电极) 50mm×0.1mm ( D×H )真空样 品室硼硅酸盐玻璃 160mm×110mm ( D×H ) 样品台 50mm (D)工作电压 0-1200V (DC)可调 溅射电流 0-50mA 溅射定时 1-3600S 蒸碳电流 0-50A(AC)真空泵 2 升机械旋转泵 标题:电镜专用高真空镀碳仪和高真空离子溅射 库号:JX164041 价格:百度搜【润联网】查 仪 EMSQ150 价格 询

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主要技术参数: 主要优势功能:自动的换气与泄气功能,可以 得到一致的膜厚,和最佳的导电喷镀效果。通 过高效低压直流磁控头进行冷态精细的喷镀过 程,避免样品表面受损。操作容易快捷,可全 自动或手动进行喷镀操作,控制的参数包括自 动放气以及氩气换气控制。在自动模式下,可 通过两种方式进行控制镀膜过程。可通过数字 显示器控制得到可重现的喷镀效果。可配备 MTM-10 高分辨膜厚监控仪(选件)(分辨率优 于 0.1nm,-99.9nm 到+999.9nm)数字化的喷 镀电流控制不受样品室内氩气压力影响,可得 到一致的镀膜速率和最佳的镀膜效果。可使用 多种金属靶材:Au, Au/Pd,,Pt,,Pt/Pd,靶 材更换快速方便。 技术规格:样品仓尺寸: 120 x 120mm(高) (4.75 x 4.75"),高强度不 锈钢结构样品台:可放置 12 个标准 SEM 样品 座,高度可在 60mm 内调节溅镀优点:基于微 处理器反馈控制,远程电流/电压感应;提供真 空安全联锁装置,最大 180A ,配有过流保护 溅射控制:微处理器控制,安全互锁,可调, 最大电流 40mA,程序化数字控制溅射头:低 电压平面磁控管,靶材更换快速,环绕暗区护 罩模拟计量:真空 标题 : 全自动磁控溅射系统 NSC-3000(A) 和台 库号:JX164042 价格:百度搜【润联网】查 式磁控溅射系统价格 询 主要技术参数: 仪器简介:ETD-2000/3000 型离子溅射仪是依 据二极 (DC) 直流溅射原理设计而成的,最简 单、可靠、经济的镀膜设备。适用于电镜实验 室的扫描电子显微镜(SEM)样品制备,非导 体材料实验电极制作。技术参数:配置参数如 下 : ? 1、靶( 上部电 极): 金: 直径 : 50mm ,厚度: 0.12mm ? 2 、真空样品室: 直径: 160mm ,高: 120mm ? 3、溅射面 积: Ф50mm,最大放置 ? 4 、真空指示表: 最高真空度:≤ 4X10-2 mbar ? 5 、离子电流 表: 最大电流: 50mA(100mA) ? 6、定时 器: 最长时间:900S ? 7 、微型真空气阀: 可连接 φ3mm 软管 ? 8 、可通入气体: 多种 ? 9、最高电压: -1600 ( -3000 ) DCV ? 10、机械泵: 2L/S 主要特点:特点: 1. 配置 有样品溅射室真空表和溅射电流表,用以指 示、监控仪器状态; 2. 溅射电流调整控制 器、微型真空气阀。在工作时结合内部自动控 制电路很容易控制真空室 压强、电离电流及任 意选择所需要的电离气体,获得最佳镀膜效 果; 3. 特殊设计的钟罩边缘

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