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精密离子减薄仪691和离子减薄仪GL2011价格


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精密离子减薄仪 691 和离子减薄仪 GL2011 价格
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标题 :离子减薄制样和离子减薄仪 RES1

02 价 库号:JX164127 价格:百度搜【润联网】查 格 询 主要技术参数: 仪 器 简 介 : 离 子 减 薄 仪 ( Precision Ion Polishing System ):为整套 TEM 样品制备 的最后一道工序,经氩离子减薄的样品可在 TEM 下直接观察。GATAN 型号 691 最新一代 精密离子减薄仪在标准配置中增加了低能量离 子枪功能,最低离子枪能量只有 0.1KeV,尤 其适合能量敏感性样品。此外,刚刚新推出的 可选配置液氮冷台,可满足用户对温度敏感性 样品减薄的需求。技术参数:离子源 离子枪 两个潘宁离子枪与微型稀土永磁体 减薄角度 +10° 到 -10° ,每个离子枪均独立可调节 离子 束能量 100eV 到 6.0 KeV 光束直径 5keV 下 350μm FWHM - 宽离子枪 5keV 下 800μm FWHM 离子电流密度 最大 10mA/cm2 离子束 调制 通过荧光屏精密调整离子束 离子束尺寸 通过气体控制调整 样品台 样品尺寸 3mm 或 2.3mm 底座 专利 DuoPost?(标准)或者石 磨载台(可选配) 旋转速率 1rpm - 6rpm 离子 束调制 针对特殊横截面可选择单面或双面减薄 观测器 双目显微镜 40X 或 80X CCD 标题:离子减薄仪和离子减薄仪 RES102 价格 库号:JX164128 价格:百度搜【润联网】查 询 主要技术参数: 仪 器简介 : 功 能最强大 的离子 减薄仪 器, RES102 多功能离子减薄仪。 RES102 是一款 独特的离子束研磨设备,带有两个鞍形场离子 源,离子束能量可调,以获得最佳离子研磨结 果。这一款独立的桌面型设备集 TEM, SEM 和 LM 样品制备功能于一体,这与市面上其它 设备截然不同。除了高能量离子研磨功能外, EM RES102 还可用于低能量极温和的离子束 研磨过程。功能介绍.透射电镜 TEM 样品离子 减薄 .扫描电镜 SEM 样品大面积平面离子抛 光 . 扫描电镜 SEM 样品离子刻蚀 . 扫描电镜 SEM 样品截面切割 .聚焦离子束 FIB 样品去除 非晶损伤层全马达控制的双离子枪和样品台 技 术参数:减薄角度可调由 0?至 90? 主机内置 2 级泵,确保高真空加速电压范围:800V~10kV (100V 步进) 最大离子电流:不小于 4.5mA (单把离子枪) 离子枪倾斜角:±45 度(精确 到 0.1 度) 样品台倾斜角:-120 度~210 度 (精确到 0.1 度) .四级系统隔膜泵和涡轮分 子泵 .真空度优于 1 标 题 : 精 密 离 子 减 薄 仪 691 和 离 子 减 薄 仪 库号:JX164130 价格:百度搜【润联网】查 GL2011 价格 询

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主要技术参数: 工作原理离子减薄制样技术属于离子束加工范 畴。其方法是用高能离子束轰击样品表面、高 能离子与样品表面原子发生弹性碰撞、样品表 面原子能量增大至高于该原子逸出功时,便飞 离样品,从而使样品逐渐减薄。离子减薄仪通 常用双枪从样品两侧轰击。样品随着支架旋 转,使得离子束轰击均匀。 产品描述 GL2011 型离子减薄仪由国内顶尖专家精心设计制作, 性能稳定,应用广泛,可对金属、非 金属、陶 瓷、矿物、半导体、骨骼、牙齿等几乎所有固 体材料进行精密减薄处理。 产品特点 多功能 样品台,兼具离子减薄和离子抛光功能 离子束 流自动控制 监视系统采用光源 减薄过程无离 子束遮挡 精心设计防污染观察系统 结构紧 凑,体积小,精密 设计,防误操作系统 样品 洁净,样品信息更为 真实可靠 技术参数 产品 名称离子减薄仪离子束加速电压 0-10KV 连续 可调最大束流密度大于 200μA/cm 减薄速度 ( 铜)

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