当前位置:首页 >> 能源/化工 >>

清洗工艺培训


清洗工艺培训 清洗工艺培训 工艺
一、 1. 清洗分为一次清洗和二次清洗,一次清洗是指扩散前清洗,二次清洗是指扩散后清 洗。 一次清洗: 目的: a) 去除硅片表面可能污染的杂质,杂质大致可归纳为三类:1、油脂、松香、蜡等 有机物质。2、金属、金属离子及各种无机化合物。3、尘埃以及其它可溶性物 质,这些污染物需要通过一些化学清洗剂清洗达到去污的目的。 b) 去除硅片表面损伤层,这是由于机械切片后,在硅片表面留下的平均为 3~5?m 厚的损伤层,这层损伤层可以通过酸性和碱性两种腐蚀液进行去除。 c) 在硅片表面制备绒面,绒面相对光面可以减少光在其表面的反射损失,充分利 用太阳光, 目前比较常用的有应用在单晶绒面制备的碱性制绒液 (绒面如图 1) 和用在多晶绒面制备的酸性制绒液(绒面如图 2) 。

图 1 碱制绒制作的金字塔绒面

2.

图 2 酸制绒制作的气泡形腐蚀坑 质控点: a) 减重(亦称减薄):硅片经过化学试剂的去污、去损及制绒后重量的减少称为减

3.

重,通过减重的监控可以间接反映腐蚀过程的变化,减重的稳定有利于后道工 艺稳定及我们最终产品的质量提升。 b) 反射率:因为一次清洗一个重要的目的是通过制绒,降低硅片表面反射率,反 射率的大小会最终影响到电池对光的吸收从而影响效率。一般原硅片反射率 28% 左右,经过一次清洗制绒单晶反射率可以达到 13%左右,多晶在 25%左右。 设备简介: a) SC 单晶制绒机:系捷佳创槽式自动清洗机,每 200 片为 1 个批次,共 12 个槽 位, 槽为前清洗, 1-4 起到去污及去损伤的作用, 为制绒槽, 5-8 制绒的关键槽, 9-12 为制绒后清洗,主要是用来去除制绒时硅片表面附着的生成物和残留液。 b) SC 单晶酸洗机:同样为捷佳创槽式自动清洗机,每 200 片 1 个批次,共 6 个槽 位,该设备放置扩散间,1、3 槽为酸槽,其余槽分别为漂洗和喷淋。 c) 甩干机:目前有无锡瑞能、四十五所、奥曼特三种甩干机,采用离心法进行硅 片脱水,每次甩干 150 片。 d) RENA-intex:德国 RENA 在线式酸制绒设备,与槽式不同的地方就是连续滚动上 片,单多晶兼容,设备外观如图 1,整体工位布局平面图如图 2,

图 1,设备外观

图 2,整体工位布局平面图 工艺流程图分三段,流程图如下图,第一段制绒、吹干、漂洗,主要是起到去 除损伤层制备绒面的作用;第二段碱洗漂洗,主要是起到去除多孔硅的作用;

第三段酸洗、漂洗、吹干,主要是起到络合重金属离子的作用。 制绒 4. 吹干 漂洗 碱洗 漂洗 酸洗 漂洗 吹干

原辅料简介: 目前所用化学品辅料以电子级为准,鉴于不同化学品厂家同为电子级,杂质含量高 差异很大,我厂制定企业标准,以 SF 打头,目前有 SF09、SF10、SF11 三个级别。 a) 单晶所用辅料:氢氧化钠、异丙醇、硅酸钠、过氧化氢、氢氟酸、盐酸、制绒 辅助品。 氢氧化钠:无色均匀粒状固体,含量 min98.0%,用其所配溶液能与硅反应生成 硅酸钠和氢气,配制好的热氧化钠溶液可以起到抛光硅片去除损伤层作用,低 浓度时可以与硅片反应发生各向异性腐蚀,制备金字塔绒面。 异丙醇(IPA) :无色透明液体,含量 min99.7%,制绒腐蚀过程中生成的氢气泡 容易吸附在硅片表面,将异丙醇加入制绒槽可以加快腐蚀过程中生成气泡的脱 附,起到消泡作用, 硅酸钠: 白色粉末状固体, 主要成份九水硅酸钠, 含量(以 Na2O 计) 19.3~22.8%, 制绒过程中加入适量起到缓释作用,提高出绒率,稳定溶液的作用, 氢氟酸:无色透明液体,含量(HF)49.0%,能起去除硅片表面氧化层,使硅片具 有脱水作用。 盐酸:无色透明液体,含量(HCl)37%,配置适当浓度能起到络合重金属离子的 作用。 过氧化氢:无色透明液体,含量(H202)30%,配合适量碱液能起到去除污染 作用。 制绒辅助品(亦称添加剂) :可以改变单晶硅腐蚀中各项异性因子和溶液活性, b) 能有效提高出绒率,缩短制绒时间。 多晶所用辅料:硝酸、氢氟酸、氢氧化钾、盐酸 硝酸:无色透明液体,含量(HNO3)65-68%,硝酸的作用是使单质硅氧化为二氧 化硅,其反应为 3Si+4HNO3===3SiO2+2HO2+4NO↑ 氢氟酸:无色透明液体,含量(HF)49.0%,氢氟酸使在硅表面形成的二氧化硅不 断溶解,使反应不断进行,其反应为 SiO
2

+ 6 HF = H

2

[SiF 6 ] +

2 H 2O

二、

1.

2.

氢氧化钾:无色透明液体,含量(KOH)45.0%,可与多孔硅反应。酸腐蚀过程中 生成多孔硅,不利于后道扩散及丝印,影响最终电池效率,配置 5%左右碱液可 以有效去除多孔硅。 盐酸:同单晶部分。 c) 其它辅料:纯水≥15 兆欧、氮气纯度≥99.999% 二次清洗: 硅片表面经扩散过程中的高温氧化,在硅片表面形成一层氧化层,这层氧化层中磷 含量丰富,所以又称磷硅玻璃,一般二次清洗使用氢氟酸来去除这层磷硅玻璃。 目的: a) 去除硅片表面的磷硅玻璃(PSG) 。 b) 对于多晶 RENA-inoxside 具有去掉硅片背面及周边 p-n 结的作用。 质控点: a) 减重(亦称减薄) :二次减薄主要反映背面及周边 p-n 结去除情况,减薄过于偏 小,容易造成周边刻不透,产生边缘漏电,因此减薄稳定性至关重要。

3.

设备简介: a) SC 单晶去 PSG 机:捷佳创槽式自动清洗机,每 200 片 1 个批次,共 5 个槽位, 该设备放置扩散间,1 为酸槽,其余槽分别为漂洗和喷淋。 b) 甩干机:同一次清洗甩干机。 c) RENA-inoxside:德国 RENA 在线式刻边机设备,具有去背结、刻边、去 PSG 的 作用。工艺流程图分三段,流程图如下图,第一段刻蚀、吹干、漂洗,主要是 去背结、 刻边; 第二段碱洗漂洗, 主要是起到去除多孔硅的作用; 第三段酸洗、 漂洗、吹干,主要是起到去除硅片表面的磷硅玻璃(PSG)的作用。 刻蚀 吹干 漂洗 碱洗 漂洗 去 PSG 漂洗 吹干

4.

原辅料简介: a) 单晶所用辅料:氢氟酸 氢氟酸:无色透明液体,含量(HF)49.0%,去除硅片表面的磷硅玻璃(PSG)的 作用。 b) 多晶所用辅料:硫酸、硝酸、氢氟酸、氢氧化钾、盐酸 硫酸:无色透明粘稠状液体,含量 95-98%,不参与反应,仅仅是增加氢离子浓度,
加快反应,增加溶液黏度(增大溶液与 PSG 薄层间的界面张力)和溶液密度。

三、

改善方向: a) 提高制绒后外观状况,降低因外观问题造成的返工降级。 b) 完善过程控制,如减薄、反射率、工艺槽浓度、化学品辅料、外围抽风、设备 报警等与产品直接或间接相关的控制点稳定性及其改善。 c) 引进新制绒工艺,降低成本,增加效率。 d) 优化制绒后反射率,提高反射率均匀性,降低不同晶块之间的亮度差。


相关文章:
保洁员清洁技能培训全套资料
传承清洁文化,追求品质生活 保洁员清洁技能培训全套资料去灰尘、湿抺、洗刷与上蜡油操作标准 一、所需清洁用具 1、除尘用干布。 2、扫帚。 3、水桶(两个) 。 ...
基础衣服洗涤技术培训
基础衣服洗涤技术培训_纺织/轻工业_工程科技_专业资料。针对新手的基础培训 ...⑥ 深色或掉色衣物用常温清洗; 6、实操训练 六 衣物熨烫 1、工具:蒸汽烫斗、...
清洗培训
清洗培训 40页 3下载券 粘胶操作步骤 5页 免费清​洗​培​训 暂无评价|0人阅读|0次下载|举报文档 阿​瑟​斯1 概述 太阳能电池片生产工艺流程: 1...
洗涤技术培训教材
洗涤技术培训教材一、洗好一件衣服要注意的方方面面: 1. 可选择洗涤的方式不...但是仍然需要先使用清水充分涮洗,将表面的墨尽可能洗掉。当在清水 中不再有...
清洗工艺验证资料
特殊工序验证资料——清洗工艺验证 员工培训记录表 培训题目 培训日期 培训方式 授课者 培训对象及成绩( 姓名 成绩 姓名 成绩 受培训人数 培训学时 组织部门 岗位...
清洗工序工程人员培训手册
清洗工序工程人员培训手册 隐藏>> 设备 工程 培训 手册 清洗 2008 年 6 月 ...4. 当各槽的实际温度达到设定温度时,就可以在上料台上放清洗篮进行生产。 注...
清洗间培训材料
尚能制造 I 部清洗培训材料 Kuttler——水平清洗机 设备工艺流程: 一、单晶清洗 上料 H2O+HF+过渡槽 过渡槽+纯水漂洗+风刀+过渡槽 过渡槽+纯水漂洗+风刀+...
电子产品清洗、三防、点胶工艺技术培训
电子产品清洗、三防、点胶工艺技术培训_纺织/轻工业_工程科技_专业资料。电子产品清洗、三防、点胶工艺技术培训“电子产品的实用清洗、三防、点胶工艺 技术与案例解析”...
清洗间化学品培训材料
清洗培训内容一 、信息互递岗位异常信息的通报 必须通知领班 装片 一小盒中...核对硅片外形尺寸 有差异报告工序长 10. 擦片,左手拿片,右手姆指朝下撵成...
油烟机清洗技术培训教材
油烟机清洗技术培训教材 目 录 前 言 一、抽烟机的原理、结构及分类 二、油烟机的使用方法 三、油烟机的保养知识 四、抽油烟机安装注意事项 五、油烟机清洗...
更多相关标签: