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L-EDIT 使用技巧


L-EDIT 使用技巧
利用计算集成电路自动设计工具软件 L-EDIT 实现移相掩模图形布局设计 及交互式图形编辑。 Tanner Research,Inc.开发的一种很优秀的集成电路设计工具 (Tanner IC Design Tools) 软件,最大的特点是可用于任何个人计算机(PC 机)、它不仅具 有强大的集成电路设计、模拟验证、版图编辑和自动布局布线等功能,而且

图形 处理速度快、编辑功能强、通俗易学、使用方便,很实用于任何个人进行集成电 路设计或其它微细图形加工的版图设计工作。早期(1988)Tanner EDA Tools 是一种可以运行于 PC-DOS 或 MS-DOS 操作系统的 IBM PC 及其兼容机的交互式集 成电路版图设计工具软件包、(当然也能运行于 Macintoshcs 苹果机和带 X-windos 的 UNIX 工作站),通过十多年的扩充、改进,几乎每年都有一种新的 修改版,到目前已经推出到 1988-2002 Tanner EDA 版本,其强大的 EDA 功能不 比 SUN 工作站上运行的 Cadence 设计软件逊色,可以用来完成任何复杂度的 IC 设计,但它却能够运行于任何微机上的 Windows 98/ Windows ME/ Windows NT/ Windows 2000/ Windows XP 等各种操作系统平台上,为设计软件的普及、推广、 应用创造了非常有利的条件。教程以具有代表性的 1998 年 Tanner EDA Tools 版 本为基础对 Tanner 集成电路设计工具软件作全面的介绍,抛砖引玉,读者可以 在此基础上,对其他版本功能作进一步探讨。整个设计工具大体上可以归纳为两 大部分,即以 S-Edit 为核心的集成电路设计、模拟、验证模块和以 L-Edit 为核 心的集成电路版图编辑与自动布图布线模块。前者包括电路图编辑器 S-Edit、 电路模拟器 T-Spice 和高级模型软件、 波形编辑器 W-Edit、 NetTran 网表转换器、 门电路模拟器 GateSim 以及工艺映射库、符合库 SchemLib、Spice 元件库等软件 包,构成一个完整的集成电路设计、模拟、验证体系,每个模块互相关联又相对 独立,其中 S-Edit 可以把设计的电路图转换成 SPICE,VHDL,EDIF 和 TPR 等网 表文件输出,提供模拟或自动布图布线。后者则是包括集成电路版图编辑器 L-Edit 和用于版图检查的网表比较器 LVS 等模块,L-Edit 本身又嵌入设计规则 检查 DRC、提供用户二次开发用的编辑界面 UPI、标准版图单元库及自动布图布 线 SPR、器件剖面观察器 Cross Section Viewer、版图的 SPICE 网表和版图参数 提取器 Extract(LPE)等等,网表比较器 LVS 则用于把由 L-Edit 生成的版图反向 提取的 SPC 网表和由 S-Edit 设计的逻辑电路图输出的 SPC 网表进行比较实现版 图检查、对照分析。L-Edit 除了拥有自己的中间图形数据格式(TDB 格式)外, 还提供了两种最常用的集成电路版图数据传递格式(CIF 格式和 GDSII 格式)的

输入、输出功能,可以非常方便地在不同的集成电路设计软件之间交换图形数据 文件或把图形数据文件传递给光掩模制造系统。 还要特别提到的是在国内已具有很高知名度的集成电路版图编辑器 L-Edit (Layout Editor)。L-Edit 是整个 Tanner EDA Tools 的基础,目前 Tanner 集成电路设计工具软件就是在 1988 年开发的最早版本交互式图形编辑软件 L-Edit 的基础上逐渐发展、完善起来的。首先是经过以 V2.00 到 V4.00 系列为 代表的纯 DOS 版本软件, 后来开发了以 V5.00 为代表的 DOS 版本, 可在 Windows 下调用,进而又开发了以 V6.00 为代表的 WIN3X 版本,随着微软的各种 Windows 版本的相继出现,Tanner Research 也相继推出了 V7.00 和 V8.00 系列产品,其 中有代表性的是 1998 年推出的 V7.50 、2000 年推出的 V8.30、2002 年推出的 V8.50 及 2003 年又推出 9.0 和 10.0 几种版本。L-Edit V7.50 是一个很典型的版 本,具有非常友好的 Windows 界面和方便的绘图能力,增加了以往版本不具有的 任意扇区和圆环绘制功能和参考标尺生成器,具有直接调用 SPR 和 DRC 及 TXT 的按钮,而且还提供了为图形编辑器进行二次开发的用户编辑界面 UPI,用户可 以自行开发更加复杂的图形编辑功能,极大地扩展了 L-Edit 的能力和灵活性。 L-Edit V8.30 版本又突破以往只有 256 色的限制,实现了真彩色表现的能力, 上下层图形可以实现透明显示,并且进一步完善了多层布线功能。L-Edit V8.50 版又增加了一个非常有用的图形运算工具 X-Tools, 例如: 图形 A 和 B 相加 (OR) ; 图形 A 被图形 B 挖去(SUB);图形 A 和图形 B 相互重叠部分挖去(XOR);图形 A 和图形 B 相互重叠部分保留其余部分删除(AND),为绘制复杂的闭合多义线 图形或图形挖空操作提供很方便的工具。 以 V2.11; V4.02 和 V4.18 为代表的纯 DOS 版本,必须在纯 DOS 系统中使 用,需要真三键鼠标 (PC 功能键),AUTOEXEC.BAT 文件只加入 AMOUSE 一条外其 它都删除,CONFIG.SYS 文件只有 Files=20 述最简单的 软件。 以 V5.00 为代表的 DOS 版本,但也可在 WIN3X 和 WIN9X 下调用, 如可以在 WIN98 下建立快捷方式运行 Key.com 软件,但三键鼠标必须设成 MS 功能键,鼠 标中键失效,采用 {键盘 Shift+Ait+鼠标左键} 代替原鼠标中键功能。 以 V6.05 为代表的 WIN3X 版本, 可在 WIN3X 和 WIN9X 下运行, 如可以在 WIN98 下建立快捷方式运行 Winledit.exe 软件,但三键鼠标也必须设成 MS 功能键,鼠 标中键失效,采用 {键盘 Shift+Ait+鼠标左键} 代替原鼠标中键功能。注意显 示彩色必须设置成 256 色,否则不能正常工作。 Buffers=20 Device=Mouse.sys 三条 , 最好启用高端内存 XMS Memory (Load EMM386.EXE)。最好采用具有上 DOS6.22 启动引导软盘启动 DOS 系统后, 在硬盘上运行 Ledit.exe

以 V7.50 和 V8.00 为代表的 WIN9X 版本,要求在 WIN9X 下完整安装, 但 简易版可采用考贝到硬盘,再在 WIN98 下建立快捷方式运行 Ledit.exe 软件。 该版本具有非常友好的 WINDOWS 界面并增加了任意扇形和环形的功能以及标 尺,还具有直接调用 SPR 和 DRC 及 TXT 的按钮。其中原来 DOS 版鼠标中键封闭 解放图形层的功能改为采用鼠标右键点击图形层选择区出现的新选择菜单执行: Show 设置。 L-Edit V8.30 以后的版本又突破以往只有 256 色的限制,实现了真彩色表 现的能力,上下层图形可以实现透明显示,并且进一步完善了多层布线功能。 L-Edit V8.50 版又增加了一个非常有用的图形运算工具 X-Tools,例如:图形 A 和 B 相加(OR);图形 A 被图形 B 挖去(SUB);图形 A 和图形 B 相互重叠部 分挖去(XOR);图形 A 和图形 B 相互重叠部分保留其余部分删除(AND),为绘 制复杂的闭合多义线图形或图形挖空操作提供很方便的工具。 详细软件使用说明参见 2002 年 11 月北京希望电子出版社出版的高等院校电 子技术教材“TANNER 集成电路设计教程”。 为封闭指定层或解除指定层的封闭; Show All 为解放所有被封闭的图形 层; Hide All 为封闭除指定层外其它所有的图形层; Setup 为层名和层属性的

4.3.1 掩模原始子单元(Cell)图形生成 掩模原始子单元(Cell)图形生成 (Cell) 4.3.1.1 建立新文件(File) 执行 LEDIT 批处理文件进入 L-EDIT 交互式图形编辑介面 进入 File/Merge Setup 打开预先建立的掩模图形设计环境文件 LMK.TDB 进入 File/New 建立新创建图形文件的文件名,如 YXYM001 进入 File/Open 再输入文件名 注意: 建议所有文件名及单元名均采用大写字符 若修改已建立的图形文件 4.3.1.2 建立新单元(Cell) 建立新创建图形原始单元名,如 YSDY001 。 进入 Cell/New 4.3.1.3 设定单位 a) 进入 Setup/Technology 进行单位设置。 b) 首先确认单位选择 Other[Lambda] 默认值为 设在内部单位模式。 c) 设置 1 个 LEDIT 内部单位等于多少用户设定的单位。 1 Internal Unit (1/1) Lambda 表示 1 个 LEDIT 内部单位等于 1 个用户设定的单位。 1 个 LEDIT 内部单位,默认值相当屏幕上 1 格。

建议设置为 1 Internal Unit (1/1000) Lambda 即设置成 1000 个 LEDIT 内部单位等于 1 个用户设定的单位。如果需要图形 邻近效应校正,曝光图形需要尺寸再造(涨缩),带有斜线或曲线图形一定要设置 成 1000 个 LEDIT 内部单位等于 1 个用户设定的单位。否则不能进行尺寸调整或 不能保证制版精度甚至出现错位及台阶。 d) 设置数据输出时 1 用户设定的单位等于多少微米 默认值设置 1 Lambda (1/1) Microns 即表示数据输出时 1 用户设定的单位等于 1 微米。也就是说设置 1000 格相当于 1 微米。(表示屏幕显示 1 格等于 1 纳米),这种设置可保证输出图形 精度。 4.3.1.4 输出倍率设定 如果需要改变输出倍率(如×10 倍输出), 可在数据处理完成后存盘前修改为: 1 Lambda (10/1) Microns 即表示数据输出时 1 用户设定的单位等于 1 微米。 4.3.1.5 设定显示格栅和显示坐标小数点位置 a) 进入 Setup/Design/Grid 进行屏幕显示格栅设置。 b) 在格栅显示“Grid display”模块中 设置 Displayed Grid= 100 Internal Unit 屏幕显示 1 格等于 100 个 LEDIT 内部单位 。 或者“Displayed”填充框中填入“0.100” Locator(标定单位-微米)。 c) “Suppress grig less 8 pixel”表示图形缩小到一个格栅只占显示屏幕 8 个像素时,屏幕上不显示出格栅。 d)在鼠标与格栅关系“ Mouse grid ”模块中,选择鼠标指针“Cursor”运动 方式: 选择“Snapping” 鼠标只能停留在规定的格点处, 非格点处鼠标停不下来, 为画图提供方便。例如设定“Mouse snap 0.100 Locator”,鼠标咬住 0.1 微米 的格点, 鼠标在屏幕上是跳动的,即每跳动一格为 0.1 微米。 选择“ Smooth”,则鼠标为连续移动的状态。 e) 设置鼠标跳动步距 Mouse Suap Grid= 100 Internal Unit 鼠标跳一步等于 100 个 LEDIT 内部单位 。 或者设置 “Mouse snap 0.100 Locator” (标定单位-微米)。 f)设置标定单位

One Locator Unit= 1 Internal Unit 屏幕显示坐标值 1.0 等于 1 个 LEDIT 内部单位。 (建议与设置 1 Internal Unit (1/1000) Lambda 相匹配) 设置成: One Locator Unit= 1000 Internal Unit 屏幕显示坐标值 1.0 等于 1000 个 LEDIT 内部单位 (=1.0 微米)。 屏幕显示坐标值和实际值一致,比较直观,不容易出错。 4.3.1.6 选择需要处理的掩模图形层(Layer) 选择需要处理的掩模图形层(Layer) 用鼠标器在模式栏(Mode Bar)的掩模层选择区(Layer Area)中选择所要处理 的层名(层号)。 4.3.1.7 绘制图形形状模式选择 用鼠标器在模式栏(Mode Bar)的作图模式区(Object Area) 中选择画图模 式。包括矩形(最常用的图形)。 圆形、圆环、扇区。 多边形(直角多边形、45 度斜边多边形、任意拐角多边形),不允许交 叉多边形。 带宽度的线条:( 直角拐弯线、45 度斜线连接、任意拐角线) 因曝光时 线头部分容易出错,建议采用多边形画线条。 无宽度的线条(因数据转换时容易出错,建议采用多边形画线条) 字符(因数据转换时不承认,建议不用,或写在非功能层上作参考,需 要制出的字符要用矩形拼接构成图形曝光) 此时就可以使用鼠标器在设计区(Layout Area) 作图。 可用选择不同掩模层,设计其它层次相关的图形。 4.3.1.8 设计过程中常用操作 ◇用 "+"或 "-"键放大缩小屏幕 ◇用 "Home" 键可在全屏幕显示完整图形 ◇用 "→"、"←"、"↑"、"↓"键移动图形 ◇打 "Z"键后, 用鼠标器左键在屏幕上拖动一小窗口, 可放大观察修改细部。 ◇可鼠标器左键在某图形上定位后,打 "Q"键使该坐标清零,在用鼠标器在 屏幕上检查线宽或间距。二次打 "Q"键坐标值复原。 ◇需要清除某些图形时, 用鼠标器右键在屏幕上选择某个矩形或拖动窗口选 择一组图形,进入 Edit/Cut 即可。 4.3.1.9 鼠标器功能

建议采用逻辑真三键鼠标器(Logitech first Mouse ,Three button), 如果没有真三键鼠标器,则采用“Shift 键+Ait 键+鼠标器左键”组合代替鼠标 器中键功能,但使用有所不便。 ◇鼠标器左键功能: [点击功能键、绘图键、和 Ait 组合模拟中键] 所有常规鼠标选择功能及所有拖动绘图功能。 在图形区中按键盘 Ait 键的同时,按鼠标器左键可移动被选定的图形位 置、 边或角 (黑边图形) (相当于只按鼠标器中键), 在层选择区按键盘 Shift 键+Ait 键的同时, 按鼠标器左键 (相当于 Shift 键+鼠标器中键),此时除指定层外,其它层图形全部都被封闭。 在层选择区按键盘 Ait 键的同时,按鼠标器左键 (相当于只按鼠标器中 键),指定层被封闭。 ◇鼠标器中键功能: [图形拖动键、层封闭键] 把鼠标指向被选定的图形 (黑边图形) 中部任何部位, 按鼠标器中键可拖 动整个图形移动。形状不变。 把鼠标指向被选定的图形 (黑边图形) 任何一条边, 按鼠标器中键可拖动 该边,改变形状。 把鼠标指向图形任何一个角点上,按鼠标器中键可拖动该点,改变形状。 在层选择区按键盘 Shift 键的同时,按鼠标器中键(或 Shift 键+Ait 键+ 鼠标器左键),此时除指定层外,其它层图形全部都被封闭。 在层选择区只按鼠标器中键 (或按键盘 Ait 键的同时,按鼠标器左键), 指定层被封闭。 ◇鼠标器右键功能: [图形选择键、层解放键] 按鼠标器右键拖动窗口选择一个或一组图形。 在一组图附近点击鼠标器右键可依次选择其中的某个图形。 按键盘 Shift 键同时, 再用鼠标右键可多次点击不同的图形也可实现一 次选择一组图形。 用鼠标器右键,点掩模层选择区(Layer Area)中任何被封闭层的位置,该 层被解放。 在按键盘 Shift 键的同时,按鼠标器右键,此时所有层图形全部都解放。 4.3.1.10 图形层的封闭与打开的操作 ◇除指定的图形层外,封闭其它所以图形层的操作 用鼠标左键点模式栏(Mode Bar)的掩模层选择区(Layer Area)中选择指定 的图形层, 点鼠标右键打开图形层操作菜单, 用鼠标左键选择“Hide All” (或

者在三键鼠标中按键盘 Shift 键的同时,按鼠标器中键),此时除指定层外,其 它层图形全部都被封闭。 ◇打开被封闭的所以图形层的操作 用鼠标左键点模式栏(Mode Bar)的掩模层选择区(Layer Area)中选择需要 操作的目标层位置(或任意层位置),点鼠标右键打开图形层操作菜单,用鼠标 左键选择“Show All” (或者在三键鼠标中按键盘 Shift 键的同时,按鼠标器 右键),此时所有层图形全部都解放。 ◇只对指定的图形层进行封闭或打开的操作 用鼠标左键点模式栏(Mode Bar)的掩模层选择区(Layer Area)中选择需要 操作的目标层位置,点鼠标右键打开图形层操作菜单,用鼠标左键选择“Show All” ,此时被选择的图形层封闭,如果再用鼠标左键选择“Show 时被选择的图形层又可以打开。其他图形层状态不变。 4.3.2 含例化单元图形的操作 建立新创建图形单元名,如 Cell001 选择某已建立的单元(如 Cell002) 选 OK All” ,此

4.3.2.1 插入被例化单元(原始单元)图形步骤 进入 Cell/New 进入 Cell/Instance

在新创建单元(如 Cell002)中加入某原始单元(如 Cell001)。 (注意: 图形坐标已变动,需要从新定位) 4.3.2.2 4.3.2.3 进入修改图形形态操作界面 进入 Edit/Edit Object(s) 修改图形位移参数 Translation (Locator Units): X: 0 Y: 0 输入 0 0 使图形坐标回零点。需要位移输入相应坐标值。 4.3.2.4 修改图形位相参数 Coordinate system : Rotation :0.00 Mirro: 4.3.2.5 4.3.2.6 修改图形倍率参数 Scale Factor: 1/1 倍率不变。 设置分布重复图形单元阵列参数 Array Parameters: 输入图形旋转角度。 选择图形镜像关系。

Repeat count: 可生成重复单元图形阵列。 4.3.2.7

输入 X-Y 分步重复个数。

Delta (locator Units): 输入 X-Y 步距。 一个单元可以插入多个例化图形的单元或多次插入同一个例化图形的

单元,还可以画入新的图形。可以对每个例化图形的单元和新画入的图形进行选 取及各种形态操作,实现图形拼接合成。 4.3.2.8 4.3.2.9 含例化图形的单元还可以作为新的例化图形的单元,组成多次嵌套关 修改被例化单元(原始单元)图形,可以使含例化图形的单元阵列中所 系的图形。 有单元都被修改。 4.3.2.10 含例化图形的单元中的图形不可能逐个多边形或矩形进行修改,需要 个别修改多边形或矩形,必须把含例化图形的单元压平,取消嵌套关系。 点击 Cell/Flatten 把所有嵌套关系的单元图形逐级代入展开, 生成没有任何嵌套关系的完整图 形 (简称 "粉碎" 或 "压平")。压平后单元变成不含例化图形的单元,可以对任 何多边形或矩形进行操作。 4.3.3 图形绘制、修改操作 图形绘制、 4.3.3.1 鼠标拖动直接绘制法 首先选择绘制图形形状模式,比如选择矩形、多边形、圆形等绘图模式,利 用鼠标器在屏幕上移动,观察屏幕右上角格点坐标值变化,当鼠标移动到需要的 坐标值时点鼠标左键在屏幕上定位, 一直按住鼠标左键并拖动鼠标到所需要的坐 标值松开鼠标左键。如果绘制多边形,则是每点一次鼠标左键定位一个多边形顶 点,最后点鼠标右键完成一个多边形绘制。这种绘制法适用于屏幕上出现格点, 并且设置鼠标是跳动的模式, 并只绘制整数格点的小图形。 绘制大图形很不方便。 4.3.3.2 4.3.3.2 鼠标拖动修改法 首先利用鼠标器右键在屏幕上点击图形,选择一个孤立图形 (图形轮廓线变 黑 ),或者新绘制一个大体尺寸的图形。 把鼠标指向图形中部任何部位,用 Ait + 鼠标左键(或者 Shift + Ait + 鼠 标左键,此时可以在 X 或 Y 方向分别移动,也可以用三键鼠标器的中键)可拖动 整个图形移动。形状不变。 把鼠标指向图形任何一条边,用 Ait + 鼠标左键可拖动该边,改变形状, 观察坐标变化,同时打 "Z"键后,用鼠标器左键在屏幕上拖动一小窗口,逐渐放

大再继续按鼠标器中键再继续拖动该边, 直到格点出现时观察坐标达到所需要数 值为止。 把鼠标指向图形任何一个角点上,用 Ait + 鼠标左键可拖动该点,改变形 状, 观察坐标变化, 同时打键盘 "Z"键后, 用鼠标器左键在屏幕上拖动一小窗口, 逐渐放大再继续按鼠标器中键再继续拖动该点, 直到格点出现时观察坐标达到所 需要数值为止。 为绘制方便可以事先利用参考标像层或在其他图形层上绘制作为参考用的 图形。利用参考标像层的图形进行精确定位。 4.3.3.3 输入坐标修改法 首先利用鼠标器右键在屏幕上点击图形,选择一个孤立图形 (图形轮廓线变 黑 ),或者新绘制一个大体尺寸的图形。 进入 Edit/Edit Object 修改矩形对角点的 X-Y 坐标值,多边形的各个顶 点的 X-Y 坐标值、圆心 X-Y 坐标值及半径等数值,精确绘制图形。 4.3.4 图形形态变换及处理的操作 4.3.4.1 被选择的图形移动操作 a) 打开 Draw/Move By/Move amount (Locator Units) 输入 X-Y 坐标值。 b) 打开 Draw/Nudga/ Lefe; Right; Up; Down 可进行左、右、上、下的微小移动。 4.3.4.2 被选择的图形旋转操作 被选择的图形旋转操作 a) 打开 Draw/Rotate/ 90 degrees 相对于被选择的图形的中心点逆时针旋转 90 度。 b) 打开 Draw/Rotate/Rotate Selected Objects/Rotation angle---degrees ( Counterclockwise )。 相对于被选择的图形的中心点逆时针旋转(按照输入任意角度值)。 c) 打开 Draw/Rotate/Rotate Selected Objects/Rotation around/ 被选择的图形相对于指定的某点为旋转中心进行逆时针旋转(按照输 入任意角度值)。 Center:相对于被选择的图形的中心点逆时针旋转(按照输入任意角 度值)。 Offset from center:被选择的图形中心点位移 X-Y 值后,以这一点 为旋转中心进行逆时针旋转(按照输入任意角度值)。

Absolute coordinates:被选择的图形中心点位移 X-Y 值后,以坐标 原点为旋转中心进行逆时针旋转 (按照输入任意角度值) 如果 X-Y 位移值为 。 (0, 0),则被选择的图形以坐标原点为旋转中心进行逆时针旋转(按照输入任意角 度值)。 4.3.4.3 被选择的图形镜像操作 a) b) a) b) c) 打开 Draw/Plip/ Horizonal 进行图形以 Y 为轴镜像处理 (左右对称处理)。 打开 Draw/Plip/ Vertical 进行图形以 X 为轴镜像处理 (上下对称处理)。 对图形进行平行于 X 方向的切割处理。 对图形进行平行于 Y 方向的切割处理。

4.3.4.4 对被选择的图形进行选择性切割操作 打开 Draw/Slice/ Horizonal 打开 Draw/Slice/ Vertical 打开 Draw/Merge

为了方便精确定位点,建议适当设置鼠标跳步参数进行配合。 对被选择的图形(或被切割的图形)进行合并操作。

复制、 4.3.5 复制、拷贝操作 4.3.5.1 图形层内部被选择的图形复制 a) 首先用鼠标选择需要复制的图形用鼠标器右键在屏幕上选择某个矩形或拖动 窗口选择一组图形。 b) 点击 c) d) 点击 Edit/Copy (或者 Ctrl+C) 把图形存入粘贴缓冲区 ( Paste- Buffer) 。 Edit/Paste (或者 Ctrl+V) 即可调出存入粘贴缓冲区中的图形(注 意: 图形坐标已变动)。 用 Shift + Ait + 鼠标左键:把拖动图形到需要安放的位置(可以采用参 考层定位)。打 "Z"键后,用鼠标器左键在屏幕上拖动一小窗口,精确定位。若 再点 Edit/Paste 还可继续调出存入粘贴缓冲区中的图形, 并按上述移动的间 距两倍的位置精确定位......以此类推可重复 Copy 多组图形。 4.3.5.2 把当前图形层中被选择的图形复制到另外一个图形层上的操作 a) 首先用鼠标选择需要复制的图形用鼠标器右键在屏幕上选择某个矩形或拖 Edit/Copy (或者 Ctrl+C) 把图形存入粘贴缓冲区 动窗口选择一组图形。 b) 点击 c) d) ( Paste- Buffer) 。 用鼠标点击图层版中另外一个图层。 点击 Edit/Paste to Layer (或者 Ait+V) 即可调出存入粘贴缓冲区中

的图形复制到该图层上。(注意: 图形坐标已变动)。

e)

用 Ait + 鼠标左键(Shift + Ait + 鼠标左键,此时可以在 X 或 Y 方向分

别移动),把拖动图形到需要安放的位置(可以采用参考层定位)。打 "Z"键后, 用鼠标器左键在屏幕上拖动一小窗口,精确定位。 4.3.5.3 不同层间选择图形或单元图形(Cell)考贝 不同层间选择图形或单元图形(Cell)考贝 (Cell) a) b) 进入 Cell/Open 选择需要考贝的单元。 All” , 用鼠标左键点模式栏(Mode Bar)的掩模层选择区(Layer Area)中选择所要考

贝的层位置, 点鼠标右键打开图形层操作菜单, 用鼠标左键选择“Hide 此时除指定层外,其它层图形全部都被封闭。 c) d) e)

利用鼠标器右键在屏幕上拖动窗口选择需要考贝图形 (图形轮廓线变黑), 用鼠标器进入 Edit/Copy (或者按 Ctrl + C 键)把该层选择的图形考贝入 用鼠标左键点模式栏(Mode Bar)的掩模层选择区(Layer Area)中选择考贝的 All”,

也可以用鼠标器点 Edit/Select All 选择该层的所有图形。 寄存器,。 目标层位置,点鼠标右键打开图形层操作菜单,用鼠标左键选择“Show 此时所有层图形全部都解放。 f) g) 在按键盘 Ait 键的同时,按 V 键。完成层间单元图形考贝,但图形位置会 在按键盘 Ait 键的同时,按住鼠标器左键拖动目标层新考贝图形,让它与 有变化。 被考贝层的图形对齐,注意要结合键盘 "Z"键,用鼠标器左键在屏幕上拖动一小 窗口,逐渐放大再继续按键盘 Ait 键的同时,按住鼠标器左键拖动目标层新考 贝图形,一直到格点出现后两出真正对齐为止。 4.3.5.4 同一文件内单元图形(Cell)考贝 同一文件内单元图形(Cell)考贝 (Cell) a) b) 致。 不同文件间单元图形(Cell) (Cell)考贝 4.3.5.5 不同文件间单元图形(Cell)考贝 a) b) c) d) 进入 Cell/Copy 选择需要考贝的单元如 Cell001 , 用鼠标点〖File〗窗口可选择已被打开的另外一个文件 YXYM002,并选定需 再点〖OK〗窗口,并输入, 即可把文件 YXYM002 中的 Cell001 单元图形复制到当前文件 YXYM001 中, 生 如果当前文件中已存在相同的单元图形名,会提示修改新的单元图形名。 4.3.5.6 不同文件间的不同层间选择图形或单元图形(Cell)考贝 4.3.5.6 不同文件间的不同层间选择图形或单元图形(Cell)考贝 (Cell) 进入 Cell/Copy 选择需要考贝的单元如 Cell001, 点〖OK〗窗口,输入新单元名如 Cell003,则生成新单元的坐标与原单元一

要考贝的单元。

成新单元名 Cell004 的单元图形。

不同文件间不能直接进行不同层间图形考贝,只能先采用 “4.3.5.5” 进 行不同文件间单元图形(Cell)考贝后,再按照 “4.3.5.3 ” 的方法进行不同层 间选择图形或单元图形(Cell)考贝。 4.3.6 图形的布尔运算与图形反转

L-Edit V8.50 以上版本具有一个非常有用的图形布尔运算工具 X-Tools, 为绘制复杂的闭合多义线图形、图形挖空及图形反转操作提供很方便的工具。 4.3.6.1 进入布尔运算模式 a) b) c) 打开 Tools/UPILIB/X-Tools,进入布尔运算界面。 打开 “Option” 。 选择 “Remove original polygon(s) after operation”,运算后删除

原来图形,只留下运算结果,便于观察。 4.3.6.2 图形 A 和 B 相加(Or,加法)的运算 相加( Or,加法) 加法 a) b) c) 首先选择一个图形或一组图形,把“Boolean”中的“ A”点红。 再选择另一个图形,把“Boolean”中的“ B”点红。 按 “A or B”,可实现图形 A 和 B 相加,即 A 和 B 两组所有图形都加到一

块组成新的图形。 4.3.6.3 图形 A 被图形 B 挖去(SUB,减法)的运算 挖去( SUB,减法) 减法 a) b) c) 首先选择一个大的图形,把“Boolean”中的“ A”点红。 再选择另一个图形或一组图形,把“Boolean”中的“ B”点红。 按 “A sub B”,可实现图形 A 减 B,即图形 A 中挖去图形 B 组成新的图形。 如果图形 B 被图形 A 完全包围,则运算结果图形 A 被图形 B 挖空,利用这个 功能可以实现图形反转操作。 如果图形 B 包围图形 A,则运算结果所有图形都消失。 如果图形 B 只遮盖图形 A 的一部分, 则运算结果图形 A 被图形 B 遮盖的部分 挖去。 4.3.6.4 图形 A 和图形 B 相互重叠部分挖去(XOR)的运算 相互重叠部分挖去( XOR) a) b) c) 首先选择一个图形或一组图形,把“Boolean”中的“ A”点红。 再选择另一个图形或一组图形,把“Boolean”中的“ B”点红。 按 “A xor B”,可实现图形 A 和 B 相互重叠部分挖去,A 和 B 两组所有没

有重叠的图形都加到一块组成新的图形。 相互重叠部分保留其余部分删除(AND) 4.3.6.5 图形 A 和图形 B 相互重叠部分保留其余部分删除(AND)的运算 a) b) 首先选择一个图形或一组图形,把“Boolean”中的“ A”点红。 再选择另一个图形或一组图形,把“Boolean”中的“ B”点红。

c)

按 “A and B”,可实现图形 A 和 B 相互重叠部分保留,A 和 B 两组所有没

有重叠的图形都被删除。 4.3.6.6 利用布尔运算工具 X-Tools 进行图形反转的运算 利用 “4.3.6.3” 图形 A 被图形 B 挖去(SUB,减法)运算的功能, a) b) c) 首先选择需要被反转的图形。把“Boolean”中的“ B”点红。 然后根据有效图形加划片道画一个大的矩形把图形 B 包围起来, 注意图形边 再按 “A sub B”,可实现图形 B 图形反转操作。

缘对称,把“Boolean”中的“ A”点红。

4.3.7 图形层间的布尔运算与图形反转 利用已有的图形层通过运算产生新工艺图形层的操作。 注意:这里只适用于矩形、45°/90°的多边形或连线。不能处理圆形和任 意角度的图形。 4.3.7.1 进入生成层设置操作 a) b) 打开 Setup/Layers/Derivation/Derived ◇ Boolean ◇ Selection ◇ Area ◇ Density 进入生成层推导界面。 打开“Derivation”对话框,可以有四种推导类型: 采用布尔运算产生推导层。 采用图形层选择的方法产生推导层。 采用图形层面积计算的方法产生推导层。 采用图形层密度计算的方法产生推导层。

4.3.7.2 采用布尔运算产生推导层 a) 确认已经有两个以上图形层有图形数据。 b) 用鼠标左键点模式栏(Mode Bar)的掩模层选择区(Layer Area)中选择将要 生成的目标层位置。 c) 选择 “Boolean” 布尔运算方式。 d) 选择 “Enable Derivation” 激活推导。 e) 在源图层模块 Source Layers( Locator Units 定位器单位-微米)中分别 选择各源图层的层名及各种布尔运算参数: ◇ 打开“Layer” 选择各层的层名,一次最多只能有三层图形进行运算。 多于三层的,可以采用其他层图形与前三层图形运算结果生成的新图层合成运 算。 ◇ 如果要对该层图形反转 图形反转,要在该层选择“NOT”,进行“非” 运算。 图形反转 ◇ 如果该层图形需要尺寸专程再造(即图形每边涨缩设置的定位器单位, 如-0.2,则该层所有图形的边缘每边缩小 0.2 微米)。

◇ “Operation”中选择 “AND”,则生成的新图层只有上下两层重合的 部分的图形, 两层没有重合的部分去除。 ◇ “Operation”中选择 “OR”,则生成的新图层包含上下两层所有的图 形,即两层图形进行加法运算。 f) 确定完成布尔运算推导层的参数设置。 4.3.7.3 进行布尔运算生成新图层的操作 a) 打开 Tools/Generate Layers 进入生成新图层对话框。 b) 在“Target”中选择 “ Layer”,在其中下拉菜单中选择生成新图层的层 名。 (如果选中 “All Layer” ,则生成新图层时同时生成推导层的轮廓线图 形。) c)选中 “Delete derived layers”,则在生成新图层时删除推导层的图形(在 标像层上的各源图层轮廓线),只留下生成新图和源图层。(如果不选中,还保 留推导层的轮廓线图形。) d) 扫描场(扫描格 Binning)参数设置 在 “Bin”中设置扫描格的尺寸(定位器单位-微米)。 如果选中 “Merge objects after generation” ,则生成新图为合并的图 形,(如果不选中,则生成新图是按扫描场分割的图形)。 e) 按“OK”,进行布尔运算, 运算结果生成新图层, 新图层和源图层一样可以 进行各种处理。 f) 要删除生成的新图层和推导层的轮廓线,进行如下操作: 打开 Tools/Clear Generated layers,进入删除生成的新图层和推导层图 形的 “Delete Objects on Generated Layers”对话框。 选择“ This Cell”删除当前图形单元中生成的新图层和推导层的轮廓线。 掩模图形层的图形反转操作 4.3.7.4 掩模图形层的图形反转操作 a) 要对图形层进行图形反转, 建议在设计掩模图形时,每层图形(包含每边加 半个划片道)的最大点和最小点上各作一个位置相同、 大小一样的定位小矩形 定位小矩形 (尺 寸可以是 1 微米以下。用于保证数据处理时各层数据中心一致,并且可以确定 图形反转的范围。 b) 参见“4.3.7.2” 用鼠标左键点模式栏(Mode Bar)的掩模层选择区(Layer Area)中选择将要生成的目标层位置。 c) 选择 “Boolean” 布尔运算方式。

d) 在源图层模块 Source Layers( Locator Units 定位器单位-微米)中选择 需要进行图形反转的层名。 e) 选择“NOT”,进行“非” 运算。 f) 参见“4.3.7.3” 名。 h) 选中 “Delete derived layers”,在生成新图层时删除推导层的图形,只 留下生成新图和源图层。 i) 根据图形复杂程度,在 “Bin”中设置适当的扫描格的尺寸。 j) 选中 “Merge objects after generation” ,生成新图为合并的图形。 k) 按“OK” ,进行图形反转运算。 4.3.8 4.3.8.1 4.3.8.2 利用宏进行图形编辑功能的二次开发 打开 Tools/Macro 进入宏界面。 在 “Macro Files” 中打开 “Load”出现查找已经编释的宏文件。 打开 Tools/Generate Layers 进入生成新图层对话框。 g) 在“Target”中选择 “ Layer”,在其中下拉菜单中选择生成新图层的层

例如:d:\Ledit750-hy\Leditdlg.dll。 把已经编释好的宏文件 Leditdlg.dll 读入界面。 4.3.8.3 4.3.8.4 选中 d:\Ledit750-hy\Leditdlg.dll。 则自动选择 “Macros:” 宏表格中的“ Advance tool ” 。 点击 “Run” 运行编释宏文件。 即出现 “Advance tool ” 任意角度、 任意曲线微光刻图形生成工具条。 可以方便地处理各种波带片、园环、螺旋线、扇形、扇形环、椭圆、椭圆 环、齿轮、条形码以及由任意函数曲线组成的图形。 参见 “4.4 作”。 4.3.9 图形拼接错误检查操作 4.3.9.1 备份原始 LEDIT 设计环境文件 Copy Ledit.tdb Ledit000.tdb 4.3.9.2 修改设计规则集 由于原始 LEDIT 设计环境文件中包含的设计规则集是通用的完整集成电路 设计规则,十分复杂,对于仅仅用于微光刻图形编辑来说,需要简化设计规则集 ,修改成只检查最小线宽和最细图形间隙两种最基本的设计规则。 a) 打开 Tools/DRC 进入设计规则检查对话框“Design Rule Check”。 任意角度、任意曲线微光刻图形生成工具软件模块操

c) 按 “Setup”钮,进入设计规则检查对话框“Setup Design Rules“。 d) 逐个选择 “Rules List”中的设计规则条例, 把激活规则复选框“Enable” 中的“√”去除,即把所有现成的设计规则全部去选,使原来的设计规则失效。 e) 按 “Add rule” 钮,新增设计规则,在“Rule:” 设计规则条例名称填 充框中自动生成的规则条例名称“New Rule 0”为改“Poly Min width”。并且 确认规则复选框“Enable” 处激活状态,即“√”状态。 f) 在“Rule type” 中的最小线宽“Min width”选中。 g) 把例外选择“Ignore”中的 45 度锐角复选框“45 degree acute angle” 选 中,允许 45 度以下锐角出现。 h) 在定义最小允许图形边长尺寸填充框“Rule distance”中填允许尺寸,例 如“0.100”,单位选择用户设定的单位“Lambda”或者“Microns”。 i) 在设计规则图层选择“Rule layers”中 “Layer1” 的图形层选择下拉菜 单中选择“Poly”层。 j) 按上述同样步骤建立新的最细图形间隙(Spacing)设计规则条例( Poly Spacing)。 k)按“OK”钮,完成最小线宽和最细图形间隙两种最基本的设计规则参数设置。 4.3.9.3 建立图形拼接错误检查规则环境 在完成最小线宽和最细图形间隙两种最基本的设计规则参数设置后,打开 File/Save As, 重新生成微光刻图形编辑专用设计环境文件 Ledit.tdb 和它的 备份文件 LeditDRC.tdb。(也可以修改成自己习惯的各种常用参数的设计环境文 件,例如包括修改图形层的颜色配制、设计格栅配制、显示及鼠标配制和 GDS 格式规定的数字图形层名等)。 用微光刻图形编辑专用设计环境文件检查版图图形拼接错误 4.3.9.4 用微光刻图形编辑专用设计环境文件检查版图图形拼接错误 a) 采用上述建立的设计环境文件启动 LEDIT。 进入设计规则检查对话框“Design Rule Check”。 b) 打开 Tools/DRC

c) 按 “Setup”钮,进入设计规则检查对话框“Setup Design Rules“。 d) 根据设计需要在定义最小允许图形边长尺寸填充框“Rule distance”中修 改允许尺寸,例如“1.000”微米。按“OK“钮确认,修改后的最小线宽和最细 图形间隙允许尺寸。回到设计规则检查对话框“Design Rule Check”。 e) 根据图形大小和复杂情况,修改扫描场格子尺寸 “Bin 50.000 Locator”, 按“OK 确定”钮开始进行图形拼接错误检查。 f) 如果图形中有圆形或任意多边形,将会出现提醒信息: “L-Edit Warning Found in Cell0. Circles. All Angle Polygons. These objects will be ignored. Do you want to Proceed?” 按“Yes to All”钮通过。

g) 演算后将出现检查到拼接错误结果的信息:“L-Edit found。”

8

DRC errors

通报有多少处出现拼接错误。按“OK 确定”钮,出现图形拼接错误检查结果图 示。 h)用鼠标点击标示的图形拼接错误处,可检查错误信息。并进行人工修改。 i)把所有图形拼接错误修改完毕后,打开 Tools/Clear Error Layer 进入 “Delete Objects on Error Layer”按“OK 确定”钮,删除错误信息标像层。 4.3.10 图形文件输入、输出操作 图形文件输入、

4.3.10.1 顶层单元图形生成操作 图形处理完成后,需要确认一个“顶层单元”,并且把它内部所有嵌套关系 的例化单元图形逐级代入展开,生成没有任何嵌套关系的完整图形 (简称 “粉 碎” 或 “压平”),同时有对“顶层单元”进行标识。步骤如下: a) 打开 Cell/Copy ,选择已设计完成准备提供制版的合成单元,复制一个新 图形单元作为“顶层单元”, 建议“顶层单元”的单元名与将来提供制版用的制 版文件名称一致,为制版数据转换时输入结构名方便,要求用大写字符。 b) 打开 Cell/Open ,选择“顶层单元”,使“顶层单元”,。 c) 点击 Cell/Flatten ,完成例化单元嵌套关系压平。生成加后缀(Flat) 的 新单元名。 d) 打开 Cell/ Fabricate , 选择已粉碎的顶层单元,把它标识为供制版用的 顶层单元。 4.3.10.2 存储 TDB 格式的备份文件和准备修改的文件 a) 件。 (在 LEDIT 5.0 系列以前版本, 进入 File/Save As... 后,可以选择 TDB、 GDSII 或 CIF 三种数据输出格式。 LEDIT6.0 系列以后版本,只能存储 TDB 格式文 件。 GDSII 或 CIF 两种数据格式必须通过 File/Export Mask Data 和 File/Import Mask Data 进行输出、输入。) 4.3.10.3 输出 CIF 格式制版掩模数据文件 a) 打开 File/Export Mask Data 进入 “Export Mask Data” 输出掩模数据 对话框。 b) 在 “Export file type” 下拉菜单中选择 “CIF” 格式。 点击 File/Save , 存储 TDB 格式备份文件。 b) 打开 File/Save As ,另外存储一个提供与制版文件名称一致的 TDB 格式文

d) 确认 “To file:” 填充框中的文件名是所需要的制版文件名称,可以 改名。 e) 按 “Export” 钮,输出 CIF 格式掩模数据文件。 输出的 CIF 格式掩模数据文件是文本文件,可以利用书写版等文本文件读 出器打开查看。 通常光学图形发生器 3600 格式掩模数据文件是采用 CIF 格 式掩模数据文件转换生成的。 4.3.10.4 输入 CIF 格式制版掩模数据文件 如果要反读 CIF 格式掩模数据文件进行检查, 或者读入采用其他手段生成的 CIF 格式掩模数据文件,需要修改或转换成 GDS 格式掩模数据文件,要按如下步 骤读入: a) 打开 File/Import Mask Data 进入 “Import Mask Data”对话框。 (不能用 File/Open ,File/Open 只能读取 TDB 格式掩模数据文件,不 能 CIF 和 GDS 格式掩模数据文件。) b) 在 “Import file type” 下拉菜单中选择 “CIF” 格式。 c) 在 “Use Setup file”中选择“Layout1”的设计环境。 (如果按默认的〈empty〉,读入的图形背景将是黑色的。) d) 打开浏览器 “Browse” 寻找需要读入的 CIF 格式掩模数据文件。 e) 按 “Import” 钮,读入的 CIF 格式掩模数据文件。 f) 如果出现图形层名错误信息,则需要按照错误信息修改层名, 打开 Setup/Layers 进入 “Setup Layers” 界面,修改“ CIF name”中 的层名,使它和与准备读入的 CIF 格式掩模数据文件相同。再重新读入。也可以 首先用书写版等文本文件读出器打开 CIF 格式掩模数据文件,修改层名,让它与 当前 LEDIT 设计环境匹配。 g) 如果读入的是采用其他手段生成的 CIF 格式掩模数据文件,可能图形倍率不 对,注意应该修改输出倍率关系。 h) 建议读入 CIF 格式掩模数据文件前,确认设计格栅单位,建议格栅单位采 用 1/1000 微米,否则读入的图形容易变形或被四舍五入,影响图形精度。 i)填充色修改方法 读入的 CIF 格式掩模数据图形可能出现层颜色不合适的现象, 可以通过层参 数设置的方法改变填充色。 打开 Setup/Layer,进入“Rendering”层填充色表现参数设置界面。 在 填充色“Fill”模块中“Patter”下拉图案条中选择网点图案,同时在 “Color” 下拉彩色条中选择彩色。

在 边框“Outline” 模块中“Patter”下拉图案条中选择网点图案,同时 在“Color” 下拉彩色条中选择彩色,在“Style” 中选择边框粗细的像素。 4.3.10.5 输出 GDS 格式制版掩模数据文件 因为 GDS 格式图形层名必须是数字形式,如 1;2;3; . . . 46;47 等, 而通常图形层名是按照集成电路工艺层和 CIF 格式方式命名。所以输出 GDS 格 式制版掩模数据文件前需要进行图形层名重新设置。 a) b) 打开 Setup/Layer,进入“General”层参数设置界面。 在 “Layers:” 层名清单中,按工艺前后顺序选择层名,例如选择 “Poly” 层,按 “Rename”钮, 出现 “Rename Layer New name”填 充框中把 “Poly”改成数字 “1”,在“Import/Export”中 “GDSII” 填充框中把 “46”也改成数字 “1”。再选择“Active” 层,按 “Rename”钮, 出现 “Rename Layer New name”填充框中把 “Active”改成数字 “2”,在“Import/Export”中 “GDSII” 填充框 中把 “43”也改成数字 “2”。 依次把所有已经编辑的掩模图形层重新按 照工艺顺序命名成 1;2;3;4;5 层。 c) 保留“顶层单元”,删除其他过渡单元。 由于邻近效应校正软件要求只有顶层单元图形数据处理比较方便, (如果还 有其他过渡单元图形,容易产生图形叠加现象)。所以提供邻近效应校正软件处 理的数据要删除所有其他过渡单元。 打开 Cell/Delete 进入 “Select Cell to Delete” 逐个删除过渡单元。 最后留下顶层单元图形。 (也可以在输出 GDSII 掩模数据文件对话框中选中“Selected cell and its hierarchy”,并在“Cell:”中选择顶层单元。) d) 在图形层选择工具条中选择需要输出的层名, 用鼠标左键点模式栏(Mode Bar) 的掩模图形层选择工具条(Layer Area)中选择所要输出的层位置,点鼠标右键打 开图形层操作菜单,用鼠标左键选择“Hide 图形全部都被封闭。 e) 打开 File/Export Mask Data 进入 “Export Mask Data”输出掩模数据 对话框。 j)在 “Export file type” 下拉菜单中选择 “GDSII” 格式。 k)选中 Export cell 模块中的“Selected cell and its hierarchy”,并在 “Cell:”中选择顶层单元。 i) 确认 “To 名。 file:” 填充框中的文件名是所需要的制版文件名称,可以改 All” ,此时除指定层外,其它层

j) 按 “Export” 钮,输出单掩模图形层的顶层单元 GDS 格式掩模数据文件。 输出的 GDS 格式掩模数据文件。 通常电子束曝光系统所用的 JEOL51 格式数 据文件是采用 GDS 格式掩模数据文件转换生成的。 k) 输出的 GDS 格式掩模数据文件前必须记录如下重要参数,数据格式转换时 需要输入这些参数。 文件库名 (File Name ; Library Name) 顶层单元名 ( Top Structure ; Cell Name) 图形左上角坐标 ( Upper Left X,Y ) 图形右下角坐标 ( Lower Risht X,Y ) 图形层号 4.3.10.6 b) (Layers No ) 输入 GDSII 格式制版掩模数据文件 进入 “Import Mask Data”对话框。

需要检查、修改或转换成 CIF 格式掩模数据文件,要按如下步骤读入: 打开 File/Import Mask Data (不能用 File/Open ,File/Open 只能读取 TDB 格式掩模数据文件,不 能 CIF 和 GDS 格式掩模数据文件。) b) 在 “Import file type” 下拉菜单中选择 “GDSII” 格式。 c) 在 “Use Setup file”中选择“Layout1”的设计环境。 (如果按默认的〈empty〉,读入的图形背景将是黑色的。) d) 打开浏览器 “Browse” 寻找需要读入的 GDS 格式掩模数据文件。 e) 按 “Import” 钮,读入的 GDS 格式掩模数据文件。


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